[发明专利]一种泄压安全装置及干式废气处理设备

说明书

本发明涉及一种泄压安全装置，包括进气管路(10)、出气管路(20)、第一气动阀(30)、第二气动阀(40)和压力传感器(50)，第一气动阀(30)连接在进气管路(10)和出气管路(20)的上部，第二气动阀(40)连接在进气管路(10)和出气管路(20)的下部，压力传感器(50)设置在进气管路(10)上。本发明还提供了一种使用这种泄压安全装置的干式废气处理设备。本发明能够提升设备安全性，提升良品率，降低损耗。

技术领域

本发明属于半导体、太阳能、薄膜电池、TFT等技术领域内的废气处理领域，尤其涉及一种泄压安全装置及干式废气处理设备。

背景技术

工艺废气处理设备即属于环保行业，又属于半导体等新兴行业专用高端智能附属设备。在集成电路的生产制造过程中，其中的一些工艺流程模块(Module)如：化学气相沉淀(CVD)、刻蚀(Etch)、离子注入(Implant)和扩散(Diffusion),以及非晶硅薄膜太阳能、液晶TFT-LCD薄膜的PECVD工艺等都会用到大量的特殊气体。这些气体参与工艺反应之后，以废气的形式被排放，其种类可分为：有毒(Toxic)、酸性(Acid)、碱性(Alkali)、自燃(Self-ignitable)、易燃(Flammable)、腐蚀性(Caustic/Corrosive)以及全氟化合物(PFCs)与挥发性有机化合物(VOC)类气体等。

干式废气处理设备中目前市场上处理金属蚀刻和氢化物科技含量最高的是干式洗涤塔，主要用于分解半导体制造过程中产生的有毒气体(砷烷、磷烷、硒化氢、硫化氢等).干式废气处理设备反应罐中的吸附剂可根据制造过程中产生的有毒气体进行定制。

每个反应罐中的介质都有不同的作用，工作时，罐中的介质会和进入的废气发生化学反应使其含量远低于TLV标准，反应后废气将变为固体。毒气通过与罐中介质反应，毒素会迅速降低到可控范围。反应罐中的放热反应会产生大量热量加速毒气分解，罐中的热电偶会实时测量罐中的温度以保证反应安全进行。

有毒气体从干式处理设备柜体顶部的进气口进入，然后，与反应罐出气口连在一起的文丘里泵让气体加速流过整个系统。同时，压力传感器实时监测真空度并控制比例阀将系统真空度维持在720Torr(托)左右。

干式处理的优点是结构简单，除害能力高，日常操作简单，只需要更换吸附桶就可以。

缺点是：气体处理量较少，且对于使用后的吸附剂要进行妥善处理；部分制程会有粉尘进入设备，长期运行粉尘会造成罐子内部堵塞，从而影响废气的流通性，导致罐体内压力过大，从而有废气泄漏的风险。

针对上述缺点，解决思路是以预防为主，防治结合，在设备进气端加入泄压安全装置，通过压力检测实时监测管道内气体压力的变化，有效预防毒气泄漏风险。当废气流量大于设备处理量时，同样可通过压力检测来保障设备运行的安全性。

基于此，特提出本发明。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本发明的目的之一是提供一种干式废气处理设备用的泄压安全装置，具体的技术方案如下：

一种干式废气处理设备用的泄压安全装置，包括进气管路、出气管路、第一气动阀、第二气动阀和压力传感器，所述第一气动阀连接在所述进气管路和出气管路的上部，所述第二气动阀连接在所述进气管路和出气管路的下部，所述压力传感器设置在所述进气管路上。

进一步地，所述进气管路包括第一进气三通、第一变径接头、第二进气三通，所述第一变径接头的大径端连接所述第一进气三通，所述第一变径接头的小径端连接所述第二进气三通。

可选地，所述第一变径接头的小径端通过一段弧形管与所述第二进气三通相连。

进一步地，所述出气管路包括第一出气三通、第二变径接头、第二出气三通，所述第二变径接头的大径端连接所述第一出气三通，所述第二变径接头的小径端连接所述第二出气三通。