[发明专利]提升审计精度的方法及系统在审
申请号: | 202011103618.2 | 申请日: | 2020-10-15 |
公开(公告)号: | CN112241512A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 王洪贺;孙永强 | 申请(专利权)人: | 四川长虹电器股份有限公司 |
主分类号: | G06F17/18 | 分类号: | G06F17/18 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 吴中伟 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提升 审计 精度 方法 系统 | ||
1.提升审计精度的方法,其特征在于,包括:
步骤(1)、对数据进行预处理,确定审计数据;
步骤(2)、对审计数据运用格拉布斯检验法剔除异常值,进行数据清洗;
步骤(3)、根据清洗之后的数据建立正态分布模型并进行仿真;
步骤(4)、在仿真过程中,引入偏度以及峰度模型修正正态分布模型提升审计精度。
2.根据权利要求1所述的提升审计精度的方法,其特征在于,在步骤(2)中,异常值包括:人工录入的异常数据以及审计系统存在的异常数据。
3.根据权利要求1所述的提升审计精度的方法,其特征在于,在步骤(2)中,运用格拉布斯检验法剔除异常值的具体方法包括:
21、对原始审计数据进行异常值剔除以及异常离散值剔除;
22、剔除异常值及异常离散值后,确定审计数据中的最大值和最小值;
23、将最大值及最小值与审计数据均值差值最大的的值作为可疑值;
24、运用格拉布斯模型剔除可疑值,并进行二次格拉布斯模型异常值剔除。
4.根据权利要求1所述的提升审计精度的方法,其特征在于,在步骤(4)中,引入偏度模型修正正态分布模型的具体方法包括:
41A、获取正态分布模型处理后的审计数据;
42A、根据正态分布模型处理后的审计数据建立偏度模型;
43A、根据偏度模型分析审计数据偏度,若偏度大于零,则设定偏度值对正态分布模型进行修正;若偏度小于零,则采取剔除异常值之后进行二次正态分布模型运算;
44A、对正态分布模型进行偏度修正或二次正态分布模型运算后,根据仿真结果调整偏度系数,得到最优审计数据。
5.根据权利要求4所述的提升审计精度的方法,其特征在于,在步骤44A中,得到最优审计数据的具体方法包括:根据仿真结果调整偏度系数,再次对正态分布模型进行偏度修正,然后通过修正后的正态分布模型对审计数据进行处理,得到最优审计数据。
6.根据权利要求1所述的提升审计精度的方法,其特征在于,在步骤(4)中,引入峰度模型修正正态分布模型的具体方法包括:
41B、获取正态分布模型处理后的审计数据;
42B、根据正态分布模型处理后的审计数据建立峰度模型;
43B、根据峰度模型分析审计数据峰度,根据审计数据峰度设定峰度值修正正态分布模型;
44B、对正态分布模型进行峰度修正后,根据仿真结果调整峰度系数,得到最优审计数据。
7.根据权利要求6所述的提升审计精度的方法,其特征在于,在步骤44B中,得到最优审计数据的具体方法包括:根据仿真结果调整峰度系数,再次对正态分布模型进行偏度修正,然后通过修正后的正态分布模型对审计数据进行处理,得到最优审计数据。
8.提升审计精度的系统,其特征在于,包括:
数据预处理模块,用于对数据进行预处理,确定审计数据;
数据清洗模块,用于对审计数据运用格拉布斯检验法剔除异常值,进行数据清洗;
仿真模块,用于根据清洗之后的数据建立正态分布模型并进行仿真;
修正模块,用于在仿真过程中,引入偏度以及峰度模型修正正态分布模型提升审计精度。
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