[发明专利]一种光学结构电磁屏蔽窗口及检测控制系统

权利要求书

1.一种光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，包括金属壳体、入射窗口、前反射镜、后反射镜、电磁出射窗口、光束出射窗口，所述前反射镜和所述后反射镜均设置在所述金属壳体内，所述入射窗口和所述电磁出射窗口对应设置，且所述前反射镜设置在所述入射窗口和所述电磁出射窗口之间，所述后反射镜对应所述前反射镜设置，所述光束出射窗口对应所述后反射镜设置；所述入射窗口为入射电磁波束和入射光束的入口，所述电磁出射窗口为所述入射电磁波束的出射窗口，所述光束出射窗口为所述入射光束的出射窗口。

2.如权利要求1所述的光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，所述光学结构电磁屏蔽窗口设置多个所述前反射镜和所述后反射镜，所述前反射镜和所述后反射镜均一一对应设置。

3.如权利要求1所述的光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，所述前反射镜为45度反射镜镀有介质反射膜，将指定波长的所述入射光束反射至所述后反射镜并透过所述入射电磁波束。

4.如权利要求3所述的光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，所述后反射镜为45度反射镜镀有全反射膜，将所述入射光束反射至所述光束出射窗口。

5.如权利要求4所述的光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，所述金属壳体通过导线接地，所述介质反射膜和所述全反射膜通过金属包边连接所述金属壳体实现接地。

6.如权利要求4所述的光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，所述介质反射膜和所述全反射膜厚度为0.1微米～1000微米。

7.如权利要求1所述的光学结构电磁屏蔽窗口，其特征在于，所述入射窗口直径范围为10mm～250mm，所述电磁出射窗口直径大于所述入射窗口直径。

8.一种检测控制系统，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的光学结构电磁屏蔽窗口、可见光及红外相机舱体、云台、屏蔽设备箱、设备电源、网络设备、终端显示控制计算机、屏蔽线缆；所述可见光及红外相机舱体、所述云台采用金属壳体，金属壳体与所述光学结构电磁屏蔽窗口等电位，所述光学结构电磁屏蔽窗口接地；所述设备电源与所述网络设备置于所述屏蔽设备箱内，所述设备电源与所述网络设备通过所述屏蔽线缆与所述可见光及红外相机舱体、所述终端显示控制计算机连接，所述屏蔽设备箱外壳接地；所述可见光及红外相机舱体内设置有相机，所述相机对应所述光束出射窗口设置，所述相机为可见光或红外相机。

9.如权利要求8所述的检测控制系统，其特征在于，所述光学结构电磁屏蔽窗口对于可见光相机采用400nm～760nm工作波长的宽带介质高反膜反射镜作为所述前反射镜，反射率大于99.95％，采用银反射膜反射镜作为所述后反射镜，反射率大于97.9％。

10.如权利要求8所述的检测控制系统，其特征在于，所述光学结构电磁屏蔽窗口对于红外热像相机采用800nm～20000nm工作波长的金反射膜反射镜作为所述前反射镜和所述后反射镜，反射率大于98.1％。