[发明专利]涂抹标本制作装置及装置中染色槽的清洗方法在审

专利信息
申请号: 202011108568.7 申请日: 2020-10-16
公开(公告)号: CN112676283A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 生田纯也;中西利志;原田优吾;品部诚也 申请(专利权)人: 希森美康株式会社
主分类号: B08B9/08 分类号: B08B9/08;G01N1/30
代理公司: 北京市安伦律师事务所 11339 代理人: 杨永波
地址: 日本兵库县神户市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 涂抹 标本 制作 装置 染色 清洗 方法
【说明书】:

本发明按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。该清洗方法是具有染色槽(20)的涂抹标本制作装置(100)的染色槽(20)的清洗方法,染色槽(20)能够收纳涂抹有样本的载玻片(11),并储存对载玻片(11)上涂抹的样本进行染色的染色液(91)来进行染色处理,该清洗方法具备以下工序:接收清洗条件相关信息的工序、按照接收的清洗条件相关信息对染色槽(20)执行清洗作业的工序。

技术领域

本发明涉及涂抹标本制作装置中染色槽的清洗方法及涂抹标本制作装置。

背景技术

如图28所示,专利文献1中公开了一种具备固定液槽901、第1染色液槽902、第2染色液槽903及清洗液槽904的染色装置900。固定液槽901中收纳固定液911,第1染色液槽902中收纳第1染色液912,第2染色液槽903中收纳第2染色液913,清洗液槽904中收纳标本910的清洗液914。标本910是涂抹了血液的载玻片。染色装置900按顺序将标本910浸渍于固定液槽901中收纳的固定液911、第1染色液槽902中收纳的第1染色液912、第2染色液槽903中收纳的第2染色液913、清洗液槽904中收纳的清洗液914之中,由此进行染色处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2001-21468号公报。

发明内容

发明要解决的技术问题

在上述专利文献1中,若染色液一直储存于染色液槽的话,会从染色液析出固体成分。因此,随着染色装置900运用期间的经过,析出的固体成分会附着于标本910。附着于标本910的固体成分可能成为妨碍显微镜观察等降低标本910品质的主要原因。

为了防止上述固体成分附着于标本的情况,现在的做法是将清洗液贮存于染色液槽来对染色液槽进行清洗,但有时会无法进行适当的清洗处理。

本发明目的在于使得能够根据涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。

解决技术问题的技术手段

为了达成上述目的,本发明第1层面的清洗方法是一种涂抹标本制作装置中染色槽的清洗方法,该涂抹标本制作装置具有能够收纳涂抹有样本的载玻片,且储存对所述载玻片上涂抹的样本进行染色的染色液来进行染色处理的染色槽,该清洗方法具备以下工序:接收清洗条件相关信息的工序、按照接收的清洗条件相关信息执行所述染色槽的清洗作业的工序。

根据本发明的清洗方法,能够按照接收的清洗条件相关信息执行染色槽的清洗作业。由此,按照涂抹标本制作装置的情况实施适当的清洗作业,能够按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。

本发明第2层面的涂抹标本制作装置具备:能够收纳涂抹有样本的载玻片,并储存对载玻片上涂抹的样本进行染色的染色液来进行染色处理的染色槽、对染色槽进行染色液的供应及排出和清洗液的供应及排出的流体回路部、存储清洗条件的设定值的存储部、按照存储部中存储的清洗条件的设定值控制流体回路部来清洗染色槽的控制部,其中,控制部接收存储部中存储的清洗条件的设定值的变更。

本发明第2层面的涂抹标本制作装置中,能够按照存储部中存储的清洗条件的设定值清洗染色槽,并接收存储部中存储的清洗条件的设定值的变更。由此,通过按照涂抹标本制作装置的情况实施适当的清洗作业,能够按照涂抹标本制作装置的情况对染色槽执行适当的清洗处理。

本发明第3层面的清洗方法是一种涂抹标本制作装置中染色槽的清洗方法,该涂抹标本制作装置具有能够收纳涂抹有样本的载玻片,并储存对载玻片上涂抹的样本进行染色的染色液来进行染色处理的染色槽,且在复数个作业模式下进行作业,该清洗方法具备以下工序:在复数个作业模式中选择至少1个作业模式的工序、按照选择的作业模式执行染色槽的清洗作业的工序。

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