[发明专利]显示面板及其制作方法有效
申请号: | 202011109456.3 | 申请日: | 2020-10-16 |
公开(公告)号: | CN112309847B | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 胡小波 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 徐世俊 |
地址: | 518132 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制作方法 | ||
本申请公开了一种显示面板及其制作方法。该显示面板的制作方法包括:在衬底上形成金属薄膜层;在该金属薄膜层上形成疏水层及光阻层;对该光阻层进行图案化处理,以形成光阻图案;将未被该光阻图案覆盖的该疏水层去除;对未被该疏水层覆盖的该金属薄膜层进行蚀刻处理,以形成第一电极层。本申请通过在金属薄膜层上设置疏水层,利用相似相溶原理,在图案化金属薄膜层过程中,增强了金属或合金与光阻层之间的粘附力,防止了光阻层意外脱落,提高了图案化金属薄膜层的良率,提高了显示面板的制作质量。
技术领域
本申请涉及显示领域,尤其涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
随着生活水平的提高,人们对显示器尺寸、分辨率和画面刷新速率的追求越来越高,因此采用铜取代铝作为导电金属材料。
导电层包括铜膜时,与玻璃基板以及含硅介电层的附着力较差,在进行高温制程后,容易出现膜层脱落现象,现有技术中,一般通过在铜膜上下沉积极性较强的金属或合金材料以提高铜膜与介电层的附着力,但在导电层图案化过程中,极性较强的金属或合金与光阻层的粘附力较差,容易出现光阻层意外脱落,导致图案化导电层良率不高的技术问题。
因此,亟需一种显示面板及其制作方法以解决上述技术问题。
发明内容
本申请提供了一种显示面板及其制作方法,以解决现有技术中,在导电层图案化过程中,金属或合金与光阻层的粘附力较差,容易出现光阻层意外脱落,导致图案化导电层良率不高的技术问题。
为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:
一种显示面板的制作方法,包括:
在衬底上形成金属薄膜层;
在所述金属薄膜层上形成疏水层及光阻层;
对所述光阻层进行图案化处理,以形成光阻图案;
将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除;
对未被所述疏水层覆盖的所述金属薄膜层进行蚀刻处理,以形成第一电极层。
在本申请的显示面板的制作方法中,所述第一电极层为栅极层,或所述第一电极层为源漏极层。
在本申请的显示面板的制作方法中,所述显示面板的制作方法还包括:
剥离所述光阻层;
利用等离子气体处理所述疏水层,将所述疏水层剥离。
在本申请的显示面板的制作方法中,利用等离子气体处理,将所述疏水层剥离的步骤包括:
利用氢气等离子或氧气等离子处理所述疏水层,使得所述疏水层与氢气等离子或氧气等离子形成碳氢气体或碳氧气体,将所述疏水层剥离。
在本申请的显示面板的制作方法中,形成第一电极层之后还包括:
在所述第一电极层上形成钝化层;
在所述钝化层上形成像素电极层。
在本申请的显示面板的制作方法中,所述第一电极层包括第一阻挡层、及位于所述第一阻挡层上的第一金属薄膜层。
在本申请的显示面板的制作方法中,所述第一电极层还包括位于所述第一金属薄膜层上的第二阻挡层。
在本申请的显示面板的制作方法中,将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除的步骤包括:
利用等离子气体处理,将未被所述光阻图案覆盖的所述疏水层去除;
其中,所述等离子气体包括氢气等离子或氧气等离子。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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