[发明专利]一种体相纳米气泡制备系统及制备方法

权利要求书

1.一种体相纳米气泡制备系统，其特征在于，包含可控水源(1)、气液混合装置(2)、气液平衡装置(3)、释放装置(4)、可控气源(5)和可视化系统(6)；其中，

所述可控水源(1)包括：依次相连水处理装置(11)、水温监控设备(12)、出水单向阀(13)；其中，所述水处理装置(11)，用于向系统提供去离子水、高纯水；所述水温监控设备(12)，用于调控系统运行过程的水温；所述出水单向阀(13)，用于控制系统运行过程水流，防止水流反向；

所述水处理装置(11)与所述水温监控设备(12)通过导流管(14)直连；

所述水温监控设备(12)包括：温控通道(121)、进液管(122)、出液管(123)、温度调节设备(124)；其中，所述温控通道(121)包覆在所述导流管外部，其内部含有控温液体；通过出液管(123)将控温液体流入温度调节设备(124)中，通过进液管(122)将温度调节设备(124)中按照设定温度调控完成的控温液体输送进入温控通道(121)；

所述气液混合装置(2)通过管道与所述可控水源(1)和气液平衡装置(3)连通；

所述气液混合装置(2)可控压强范围在1atm～6atm，所述气液混合装置(2)包括：

高压储水切割装置(21)，其用于接收来自于可控水源的水，达到标定水位后，采用高压切割的方式，对水气进行第一次的混合；

气压监控装置(22)，与所述高压储水切割装置(21)相连，监视高压储水切割装置(21)内的气体及其压力；

出水单向阀(23)，与所述高压储水切割装置(21)相连，用于控制水流方向，将高压储水切割装置(21)中的水定向流入气液平衡装置中；

所述高压储水切割装置(21)进一步包括：

储液装置(211)，该装置与所述可控水源中的出水单向阀(13)以导流管(14)相连；

高速涡轮(212)，该装置与所述储液装置(211)直接相连；

所述气压监控装置(22)进一步包括：

压力传感器(221)，其上附带有气压显示设备；

气体控流阀(222)，其与所述高压储水切割装置(21)相连，亦连有所述可控气源(5)；

所述气液平衡装置(3)通过管道与所述释放装置(4)连通；

所述气液平衡装置(3)可控压强范围在1atm～6atm，所述气液平衡装置(3)包括：

高压储水装置(31)，其用于收容由气液混合装置预处理后的水；

气压监控装置(32)，其与所述高压储水装置(31)相连，亦连有所述可控气源(5)；

出水单向阀(33)，其与所述释放装置(4)相连；

所述气压监控装置(32)包括：

压力传感器(321)；

气体控流阀(322)，连有所述可控气源(5)；

所述释放装置(4)包括：缓冲储水区域(41)、控流阀门(42、43)、喷雾释放口(44)、水流释放口(45)；其中，所述缓冲储水区域(41)，用于接收来自高压储水装置(31)平衡压强后流入的水，起到缓冲储水和平衡压强的作用；所述控流阀门，用于控制释放方式；所述喷雾释放口，即喷雾状释放口，通过此释放口释放的液体以喷雾的形式流出；所述水流释放口，即水管状释放口，通过此释放口释放的液体以水流的形式流出；

所述可控气源(5)与所述气液混合装置(2)和所述气液平衡装置(3)连通；所述可控气源包括：气体控流阀(51、53)，高压储气装置(52)以及气压传感器；

所述可控气源(5)通过气体控流阀(51、53)控制从高压储气装置 (52)中气体流出的速度和压力；所述高压储气装置 (52)连有气力传感器(54)，用于向可视化系统(6)提供压力参数；所述可控气源，通过控流阀门(51)与所述气液混合装置(2)相连，同时，通过气体控流阀(53 )与所述气液平衡装置(3)相连；

所述可视化系统(6)包含可控水源(1)、气液混合装置(2)、气液平衡装置(3)、可控气源(5)的参数可视化；

制备的所述体相纳米气泡的数密度为6×10⁹颗粒/mL且粒径为120-200nm。