[发明专利]一种适用于多尺寸晶体生长的热场设备及方法有效
申请号: | 202011109662.4 | 申请日: | 2020-10-16 |
公开(公告)号: | CN112176401B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B15/14;C30B15/20 |
代理公司: | 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 | 代理人: | 陈润明 |
地址: | 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 尺寸 晶体生长 设备 方法 | ||
1.一种适用于多尺寸晶体生长的热场设备的晶体制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
步骤一:将原料装入石墨坩埚(6.3),使用保温毡(6.2)包裹石墨坩埚(6.3),然后将包裹好的石墨坩埚(6.3)放置在托盘上,升降电机将石墨坩埚(6.3)运动到热场保温系统(6)中;
步骤二:石墨坩埚(6.3)进入热场,经密封后热场保温系统(6)内开始抽真空,真空度达到要求后开始启动感应加热系统(7),供电系统(12)的供电经过电源高频加热系统(10)给感应加热系统(7)供电;
步骤三:编码器(9.1)通过控制系统获得的信息来控制电机(9.2)的转数,来实现感应加热系统(7)到达不同长晶时需要的加热位置,通过红外检测系统(8)和仪表控制系统(3)的反馈,控制系统自动调整热场压力和温度的变化,使长晶顺利完成;
所述热场设备包括冷却保护系统(1)、抽真空系统(2)、仪表控制系统(3)、工艺供气系统(4)、坩埚升降系统(5)、热场保温系统(6)、感应加热系统(7)、红外检测系统(8)、感应加热升降系统(9)、电源高频加热系统(10)、空调系统(11)和供电系统(12),热场保温系统(6)的下侧安装有坩埚升降系统(5),热场保温系统(6)的外侧安装有感应加热系统(7),热场保温系统(6)的上侧安装有红外检测系统(8),热场保温系统(6)与冷却保护系统(1)建立连接,冷却保护系统(1)通过电源高频加热系统(10)与感应加热系统(7)建立连接,抽真空系统(2)分别与热场保温系统(6)和工艺供气系统(4)建立连接,热场保温系统(6)和工艺供气系统(4)分别与仪表控制系统(3)建立连接,电源高频加热系统(10)与仪表控制系统(3)建立连接,感应加热升降系统(9)与感应加热系统(7)连接,供电系统(12)分别与冷却保护系统(1)、电源高频加热系统(10)和空调系统(11)电性连接;
所述感应加热升降系统(9)包括编码器(9.1)、电机(9.2)、螺杆(9.3)、环形托盘(9.4)、连接板(9.6)、升降螺母(9.7)和C型架(9.8),电机(9.2)上安装有编码器(9.1)并与编码器(9.1)电性连接,电机(9.2)的输出端与螺杆(9.3)连接,螺杆(9.3)与C型架(9.8)轴承连接,螺杆(9.3)与升降螺母(9.7)连接,升降螺母(9.7)与连接板(9.6)连接,连接板(9.6)与环形托盘(9.4)连接,环形托盘(9.4)与感应加热系统(7)连接。
2.根据权利要求1所述的一种适用于多尺寸晶体生长的热场设备的晶体制备方法,其特征在于:所述热场保温系统(6)包括下密封法兰(6.1)、保温毡(6.2)、石墨坩埚(6.3)、石英管(6.4)和上密封法兰(6.5),石英管(6.4)的上下两端分别连接下密封法兰(6.1)和上密封法兰(6.5),坩埚升降系统(5)位于下密封法兰(6.1)下侧,坩埚升降系统(5)与设置在石英管(6.4)内部的托盘连接,托盘上放置有保温毡(6.2)包裹的石墨坩埚(6.3),下密封法兰(6.1)和上密封法兰(6.5)均加工有循环水进出口,冷却保护系统(1)分别通过循环水进出口与下密封法兰(6.1)和上密封法兰(6.5)连接并与下密封法兰|(6.1)和上密封法兰(6.5)形成循环水路。
3.根据权利要求2所述的一种适用于多尺寸晶体生长的热场设备的晶体制备方法,其特征在于:所述下密封法兰(6.1)的下部具有入口接头和出口接头,抽真空系统(2)通过出口接头与石英管(6.4)连通,工艺供气系统(4)通过入口接头与石英管(6.4)连通。
4.根据权利要求1-3任一所述的一种适用于多尺寸晶体生长的热场设备的晶体制备方法,其特征在于:所述电源高频加热系统(10)包括可变电源(10.1)和高频发生器(10.2),可变电源(10.1)与高频发生器(10.2)电性连接,高频发生器(10.2)与感应加热系统(7)电性连接,可变电源(10.1)与供电系统(12)电性连接。
5.根据权利要求1所述的一种适用于多尺寸晶体生长的热场设备的晶体制备方法,其特征在于:所述连接板(9.6)的数量为三个,连接板(9.6)均匀布置在环形托盘(9.4)外侧。
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