[发明专利]对准装置以及包括该对准装置的基板处理装置

权利要求书

1.一种对准装置，其中，包括：

支撑模块，将多个对象物中的每个对象物支撑在不同高度；以及

对准模块，将由所述支撑模块支撑的对象物进行对准，

所述对准模块包括：

第一对准部，将作为多个所述对象物中的一个的第一对象物进行对准；

第二对准部，将作为多个所述对象物中的一个且与所述第一对象物不同的第二对象物进行对准；以及

驱动部，使所述第一对准部和所述第二对准部同时移动。

2.根据权利要求1所述的对准装置，其中，

所述驱动部使所述第一对准部和所述第二对准部沿相同方向移动。

3.根据权利要求1所述的对准装置，其中，

所述第一对准部包括至少一个以上第一辊，当所述对准模块将所述第一对象物进行对准时，所述第一辊与所述第一对象物接触，

所述第二对准部包括至少一个以上第二辊，当所述对准模块将所述第二对象物进行对准时，所述第二辊与所述第二对象物接触。

4.根据权利要求1所述的对准装置，其中，

所述对准模块还包括第三对准部，所述第三对准部将作为所述对象物中的一个且与所述第一对象物和所述第二对象物不同的第三对象物进行对准，

所述驱动部使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部同时移动。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的对准装置，其中，

所述对准模块设置为多个，当从顶部观察时，多个所述对准模块分别配置在由所述支撑模块支撑的对象物的拐角区域。

6.根据权利要求5所述的对准装置，其中，

所述支撑模块包括：

底座；

支架，设置在所述底座的顶面，并且支撑与所述第一对象物和所述第二对象物不同的第三对象物；

至少一个以上升降销，能够插入到形成于所述第三对象物的孔，并且使所述第二对象物升降；以及

支撑销，支撑所述第一对象物。

7.根据权利要求6所述的对准装置，其中，

所述支架包括：

安置部，支撑所述第三对象物时与所述第三对象物的底面接触；以及

倾斜部，从所述安置部延伸，并且从顶部观察到的所述底座的中心朝向所述底座的外侧方向向上倾斜。

8.根据权利要求6所述的对准装置，其中，

所述支撑销在第一高度支撑所述第一对象物，

所述升降销在低于所述第一高度的第二高度升降并支撑所述第二对象物，

所述支架在低于所述第二高度的第三高度支撑所述第三对象物。

9.一种基板处理装置，其中，包括：

处理室，对基板执行等离子体处理工艺；

缓冲室，具有内部空间，并且在所述内部空间设置有将窗式夹、基板以及夹具板对准的对准装置；以及

搬运机械手，在所述处理室和所述缓冲室之间搬运所述窗式夹、所述基板以及所述夹具板，

所述对准装置包括：

支撑模块，将所述窗式夹、所述基板以及所述夹具板支撑在彼此不同的高度；以及

对准模块，将由所述支撑模块支撑的所述窗式夹、所述基板以及所述夹具板进行对准，

所述对准模块包括：

第一对准部，将所述窗式夹对准；

第二对准部，将所述基板对准；

第三对准部，将所述夹具板对准；以及

驱动部，使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部同时移动。

10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，

所述驱动部使所述第一对准部、所述第二对准部以及所述第三对准部沿相同方向移动。