[发明专利]金属线层的蚀刻液组合物及其应用

权利要求书

1.一种金属线层的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻液组合物其包括：过氧化氢、唑类、含氟化合物、醇胺类化合物、无机酸、有机酸或其酸式盐、表面活性剂及水。

2.如权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述金属线层的蚀刻液组合物按重量百分比计包括：过氧化氢15-25wt％、唑类化合物0.1-6wt％、含氟化合物0.001-0.2wt％、醇胺类化合物0.1-3wt％、无机酸0.1-5wt％、有机酸或其酸式盐0.1-5wt％、表面活性剂0.1-3wt％，及余量的水。

3.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述唑类化合物为四唑类化合物；

所述四唑类化合物为氨基四唑、甲基四唑、苯基四唑、5-胺基-1H-四唑、1,5-五亚甲基四唑、1H-四唑、5-甲基-1H-四唑和5-苯基-1H-四唑中的一种或几种。

4.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述含氟化合物为氟化钠、氟化钾、氟化铝、硼氟酸、氟化铵、氟化氢铵、氟化氢钠、氟化氢钾、氟硼酸铵和氟化铪中的一种或几种。

5.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述醇胺类化合物为具有氨基和醇基的化合物；

所述醇胺类化合物为甲醇胺、乙醇胺、丙醇胺、丁醇胺、二乙醇胺、三乙胺、二甲基乙醇胺、N-甲基乙醇胺和三乙醇胺中的一种或几种。

6.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述无机酸为磷酸、硫酸、硝酸、盐酸和碳酸中的一种或几种。

7.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述有机酸为含有氨基的有机酸；

所述有机酸为丙氨酸、氨基丁酸、谷氨酸、亚氨基二乙酸、氨三乙酸、琥珀酸、琥珀酰亚胺、亚氨基二乙酸和亚氨基二琥珀酸中的一种或几种。

8.如权利要求7所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述酸式盐为所述有机酸和碱溶液反应后形成的化合物。

9.一种如权利要求1～8中任一项所述的金属线层的蚀刻液组合物在阵列基板中的应用，所述蚀刻液组合物用于一次性同时湿蚀刻阵列基板中的金属线层和置于金属线下方的氧化物活性层；其中所述金属线层为铜或者主要含铜的多层金属结构。

10.如权利要求9所述的应用，其特征在于，所述含铜的多层金属结构为Cu/Mo或Cu/Mo合金的双层结构，或者为Mo/Cu/Mo或Mo合金/Cu/Mo合金的三层结构；

所述氧化物活性层为含有铟、镓、锌和氧的活性层。