[发明专利]处理盒和电子照相设备

说明书

本发明涉及处理盒和电子照相设备。提供在维持令人满意的电位变动的同时抑制横向行进的处理盒。处理盒包括：包括第一支承体、最下层和感光层的电子照相感光构件；和包括第二支承体和导电层的充电构件。在当通过在使交流电压变化的同时对最下层施加交流电压来测量阻抗时，阻抗的相位达到45°时的最大频率由fsubgt;OPC/subgt;(Hz)表示的情况下，并且在当通过在使交流电压变化的同时对充电构件施加交流电压来测量阻抗时，阻抗的相位达到45°时的最大频率由fsubgt;C/subgt;(Hz)表示的情况下，fsubgt;OPC/subgt;和fsubgt;C/subgt;各自具有在一定范围内的值。

技术领域

本公开涉及包括电子照相感光构件和充电构件的处理盒和电子照相设备。

背景技术

与电子照相感光构件(下文中有时简称为感光构件)有关的电子照相过程主要包括充电、曝光、显影和转印四个过程，并且根据需要包括例如清洁和预曝光等过程。其中，充电过程和曝光过程是对于形成静电潜像至关重要的过程，其包括控制感光构件的电荷分布以将感光构件表面设定为期望的电位分布。充电过程包括从充电构件(充电单元)向电子照相感光构件产生放电，由此使感光构件表面带电。在该情况下，在没有适当地设计感光构件和充电构件的电特性以及电特性的频率依赖性时，发生放电变得过度而引起感光构件的介质击穿的现象(下文中有时称为泄漏)和由放电的不稳定引起的带电不良现象，由此造成问题。因此，直接在感光构件的支承体上与感光层分开地形成具有受控制的电阻的层(下文中称为最下层)从而电遮蔽由支承体的表面上的毛刺等引起的凹凸，由此抑制泄漏和带电不良。

当从电阻的观点考虑感光构件特性时，从抑制泄漏和通过提高带电能力来抑制带电不良的观点，期望电阻是高的。然而，当电阻过度增大时，光敏度在曝光过程中劣化。特别地，当通过使用具有高电阻的感光构件反复进行图像打印时，电荷除去不令人满意，因此，通过长期使用，电荷在感光构件内部累积。因此，使亮区电位逐渐上升(下文中有时称为电位变动)，并且使得与暗区电位的对比度减小。因此，当考虑曝光过程时，优选感光构件具有低的电阻。

迄今为止，考虑到频率依赖性，通过基于阻抗设计最下层和感光构件的电特性来优化电特性。这样，对于取决于例如充电过程或曝光过程等电子照相过程而变化的特征时间尺度，根据各过程来优化对应于各时间常数的频带中的电特性，由此解决上述问题。

同时，作为在充电过程中构成为将电荷施加至感光构件的充电构件，迄今为止主要使用电晕型充电构件和辊型充电构件等。其中，电晕型充电构件需要比辊型充电构件的施加电压高的施加电压，因此所需的电源的尺寸和成本造成问题。相比之下，辊型充电构件需要低的施加电压，因此可以将电源的尺寸和成本抑制为小的。然而，辊型充电构件的问题在于，带电的均匀性和稳定性差于电晕型充电构件的带电的均匀性和稳定性。

此外，在辊型充电构件(下文中有时称为充电辊)中，使充电辊与感光构件彼此直接接触。因此，由于对感光层的异物污染和由对感光层的冲击引起的凹痕，感光构件被局部损坏直至最下层的表面，或者在其中形成孔，结果是使在局部区域施加至感光构件的电压极大地分压至最下层。在这样的情况下，大电流通过所述区域从感光构件的表层侧流向支承体侧。于是，电荷向充电辊的供给变得不足，并且无法充分地进行向感光构件表面的放电，结果是沿充电辊的长度方向发生线状带电不良。当在该状态下打印图像时，输出具有沿感光构件的长度方向绘制在其上的黑线的图像(下文中称为横向行进图像(lateralrunning image))。由于不能完全控制异物污染和由冲击引起的凹痕(dent)的发生，因此该现象(下文中称为横向行进)成为问题。

在日本专利申请特开No.H10-268541中，记载了在表面具有氧化铝膜的铝基体(base)上包括含有光导电性材料的感光层的感光构件。通过控制氧化铝膜的阻抗，抑制由局部带电不良引起的起雾。