[发明专利]光微通道阵列面板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011117526.X 申请日: 2020-10-19
公开(公告)号: CN112215177A 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 何相平;李建杰;王斌;马婕;罗新华;蔡昀志 申请(专利权)人: 广州宏晟光电科技股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G02B5/00;C03C15/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 常柯阳
地址: 510925 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 通道 阵列 面板 及其 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种光微通道阵列面板及其制备方法,涉及光学器件领域,所述面板包括多个透光通道玻璃和填充在多个所述透光通道玻璃之间的黑色玻璃;其中,所述黑色玻璃形成面板结构,多个所述透光通道玻璃均为柱状,各所述透光通道玻璃以阵列的形式分布;各所述透明通道玻璃的两端均凹陷于所述面板结构的端面。本发明提供的面板的光准直性能相对于现有技术更好,且本发明的制作工艺简单。

技术领域

本发明涉及光学领域,尤其是一种光微通道阵列面板及其制备方法。

背景技术

实心光微通道阵列面板与通孔阵列元件相比准直性能好、加工效率高、易量产且有良好的工艺性能,已在屏下指纹识别技术中得到推广应用。其中,微通道是指通道尺寸处于1-1000微米。

然而,随着屏下指纹识别技术的发展,以及该产品在VR等一些新领域的应用,用户希望该产品能实现更高的准直性能,以达到更高的图像分辨力。

现有技术主要是通过加大微通道的深径比(H/d)、减少透明玻璃的折射率和提升黑色基体玻璃的光吸收性能来减少光的发散角。然而,实践证明现有技术存在较大的局限性,采取上述措施后,光线的发散角与理论计算值有较大差异,难以进一步缩小。主要原因是虽然经过抛光处理,但透明的实心光微通道的端面依然存在微观的不平整度,经准直的光线在端面出射时会被表面微观的凹凸结构再次散射,该问题制约了实心光微通道阵列面板的准直性能提升。

发明内容

为解决上述技术问题的至少之一,本发明的目的在于:提供一种光微通道阵列面板及其制备方法,以提升实心光微通道阵列面板的准直性能,且提供一种简单的制作工艺。

第一方面,本发明实施例提供了:

一种光微通道阵列面板,包括多个透光通道玻璃和填充在多个所述透光通道玻璃之间的黑色玻璃;

其中,所述黑色玻璃形成面板结构,多个所述透光通道玻璃均为柱状,各所述透光通道玻璃以阵列的形式分布;

各所述透明通道玻璃的两端均凹陷于所述面板结构的端面。

在部分实施例中,各所述透光通道玻璃的光通道方向平行。

在部分实施例中,各所述透光通道玻璃的光通道方向均与所述面板结构的端面垂直。

在部分实施例中,各所述透光通道玻璃的光通道方向均与所述面板结构的端面形成一个锐角。

在部分实施例中,所述黑色玻璃的耐酸能力大于所述透光通道玻璃的耐酸能力。

在部分实施例中,所述透光通道玻璃均为圆柱状。

第二方面,本发明实施例提供了:

一种光微通道阵列面板的制备方法,包括以下步骤:

对实心光微通道面板进行酸蚀处理;

清洗和干燥酸蚀后的所述面板,得到目标光微通道阵列面板;

其中,所述实心光微通道面板包括多个透光通道玻璃和填充在多个所述透光通道玻璃之间的黑色玻璃,所述黑色玻璃形成面板结构,多个所述透光通道玻璃均为柱状,各所述透光通道玻璃以阵列的形式分布,所述黑色玻璃的耐酸能力大于所述透光通道玻璃的耐酸能力。

在部分实施例中,所述酸蚀处理所采用的酸为混合酸,所述混合酸的成分范围为:水:盐酸:硝酸:氢氟酸=(15~20):(0.1~1):(0.1~1):(0.1~0.5);

所述酸蚀处理时,混合酸的温度为20~30摄氏度,酸蚀处理的时长为120~200分钟。

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