[发明专利]量子点墨水溶液体系、量子点发光器件及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202011119497.0 申请日: 2020-10-19
公开(公告)号: CN112259702A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 陈卓 申请(专利权)人: 北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32;C09D11/30;C09D11/50
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 金俊姬
地址: 100176 北京市大兴*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 量子 墨水 溶液 体系 发光 器件 及其 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种量子点墨水溶液体系、量子点发光器件及其制作方法,采用加热交联的方式在阳极上依次制作空穴注入层和空穴传输层,加热交联成膜的方式可以避免喷墨打印的下一膜层的墨水溶剂对上一膜层的侵蚀,量子点墨水溶液添加与量子点材料的配体匹配的光敏添加剂,之后制作采用光照交联的方式制作量子点发光层,光照交联成膜的方式可以避免之后喷墨打印的电子传输墨水溶液的溶剂对量子点发光层的侵蚀,也能避免采用加热交联使量子点发光层的材料降解问题。这样可以提高制作出的QLED器件的效率,提升QLED器件寿命,降低启亮电压。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤指一种量子点墨水溶液体系、量子点发光器件及其制作方法。

背景技术

随着量子点制备技术的深入发展,量子点的稳定性以及发光效率不断提升,量子点发光器件(QLED)的研究不断深入,QLED在显示领域的应用前景日渐光明。由于量子点的无机纳米粒子属性,只能通过溶液法成膜。因此,喷墨打印技术(Inkjet Printing)是QLED量产最有可能的一种生产工艺。

发明内容

本发明实施例提供一种量子点墨水溶液体系、量子点发光器件、其制作方法及显示装置,用以解决现有技术中存在喷墨打印电子传输层时对量子点发光层的侵蚀问题。

本发明实施例提供了一种量子点发光器件的制作方法,包括:

在形成有阳极的衬底基板上打印空穴注入墨水溶液,采用加热的方式使所述空穴注入墨水溶液交联形成空穴注入层;

在所述空穴注入层上打印空穴传输墨水溶液,采用加热的方式使所述空穴传输墨水溶液交联形成空穴传输层;

在所述空穴传输层上打印量子点墨水溶液,所述量子点墨水溶液包括具有配体的量子点材料、与所述配体匹配的光敏添加剂和溶剂,采用光照的方式使所述量子点墨水溶液交联形成量子点发光层;

在所述量子点发光层上打印电子传输墨水溶液,以形成电子传输层;

在所述电子传输层上采用蒸镀的方式形成阴极。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述量子点材料的配体包括至少以下之一:油酸、油胺、三辛基膦、三辛基氧膦、十二硫醇;

所述光敏添加剂包括:光致生酸剂和叔丁氧羰基保护双氨基分子;或,所述光敏添加剂包括可交联空穴传输型分子。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述量子点材料的配体中包含不饱和键;

所述光敏添加剂包括光照自由基引发剂;或,所述光敏添加剂中包含光敏基团保护的巯基。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述光敏添加剂为所述量子点材料的配体中包含光敏基团保护的氨基、巯基或羧基。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,对所述量子点墨水溶液光照的波长范围为254nm-365nm,光照的时间为10分钟-30分钟,光照的能量为40mJ/cm2-70mJ/cm2

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述量子点墨水溶液中的所述溶剂为长链醇化合物或长链烷烃化合物。

在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述制作方法中,所述采用光照的方式使所述量子点墨水溶液交联形成量子点发光层,具体包括:

真空干燥所述空穴传输层上的量子点墨水溶液,形成所述量子点发光层;

光照所述量子点发光层,使所述量子点发光层发生交联;

采用第一温度加热烘烤交联后的量子点发光层;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011119497.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top