[发明专利]一种优化钴基磁性薄膜电感材料磁性能的方法有效
| 申请号： | 202011120297.7 | 申请日： | 2020-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN112509805B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 徐秀兰;于广华;冯春 | 申请（专利权）人： | 山东麦格智芯机电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/18 | 分类号： | H01F41/18;H01F41/22 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 255400 山东省淄*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 优化 磁性 薄膜 电感 材料 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种优化钴基磁性薄膜电感材料磁性能的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1.对Co基软磁材料靶材表面进行清洗；
S2.利用磁控溅射方法，在基片上依次沉积Co基软磁材料、Al2O3，形成Co基软磁材料/Al2O3结构；
S3.沉积完毕后，在真空环境下，对步骤S2中得到的薄膜体系进行适当温度的热处理；
所述Co基软磁材料包括CoZrTa、CoZrTaB；
步骤S2中所述磁控溅射的溅射室的本底真空度1×10-5～3×10-5Pa，溅射时氩气压为0.3～0.8Pa；
步骤S3中所述真空环境的真空度为1×10-5～5×10-5Pa，所述热处理的温度为200～500℃，保温时间为5～30分钟。
2.根据权利要求1所述的优化钴基磁性薄膜电感材料磁性能的方法，其特征在于：所述基片包括带有热氧化的SiO2层的Si基片、Si基片、应力应变基片。
3.根据权利要求1所述的优化钴基磁性薄膜电感材料磁性能的方法，其特征在于，步骤S1中所述清洗过程包括：先用有机化学试剂对靶材表面进行超声清洗，之后用去离子水超声清洗，最后通过氮气吹干或者烘箱烘干。
4.根据权利要求1所述的优化钴基磁性薄膜电感材料磁性能的方法，其特征在于：步骤S2中所述磁控溅射的Co基软磁材料靶材轰击时间2-5分钟，Al2O3靶材轰击时间6-8分钟。
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