[发明专利]转印膜及其用途在审
申请号: | 202011123592.8 | 申请日: | 2020-10-20 |
公开(公告)号: | CN114379274A | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | 林明辉 | 申请(专利权)人: | 合泰材料科技股份有限公司 |
主分类号: | B44C1/165 | 分类号: | B44C1/165 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 韩蕾;姚亮 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 转印膜 及其 用途 | ||
1.一种转印膜,包括:
一基材及设置于该基材上的一高光层,所述基材具有一接合面,所述高光层具有相对的一镜面及一贴合面,所述高光层的镜面与所述基材的接合面直接接触,其中,所述基材的接合面的算术平均粗糙度小于1.5微米,所述基材的材料包含聚乙烯系组合物,且所述聚乙烯系组合物具有羟基,所述高光层的材料包含聚甲基丙烯酸甲酯。
2.如权利要求1所述的转印膜,其中,所述聚乙烯系组合物包含如下式I和式II的重复单元:
其中,n1为大于或等于0和小于5000的自然数,以及n2为大于0和小于5000的自然数。
3.如权利要求2所述的转印膜,其中,所述n1为0,且所述聚乙烯系组合物的重复单元由式II所组成。
4.如权利要求1所述的转印膜,其中,所述聚乙烯系组合物的聚合度为2000至3000。
5.如权利要求1至4中任一项所述的转印膜,其中,所述基材的纵向断裂伸长率为300%至600%,所述基材的横向断裂伸长率为300%至600%。
6.一种转印膜的用途,其包括将如权利要求1至5中任一项所述的转印膜施予于一目标物上。
7.如权利要求6所述的用途,其中,所述目标物具有一表面,且所述表面为一平整面或一曲面。
8.如权利要求6所述的用途,其中,所述转印膜的高光层的贴合面直接贴合于所述目标物的表面。
9.如权利要求6所述的用途,其中,所述目标物具有一凸部或一凹部,所述凸部或凹部的长、宽和高的任一者小于500毫米,且所述转印膜的高光层的贴合面直接贴合于所述凸部或凹部。
10.如权利要求6至9中任一项所述的用途,其中,所述目标物的材质选自于由下列所组成的群:塑料、金属和玻璃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合泰材料科技股份有限公司,未经合泰材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011123592.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种省力手工石磨
- 下一篇:机械手、机械手的驱动方法及设备