[发明专利]一种利用绝缘边保护层来制备N型电池的方法有效
申请号: | 202011123637.1 | 申请日: | 2020-10-20 |
公开(公告)号: | CN112151641B | 公开(公告)日: | 2022-09-13 |
发明(设计)人: | 刘阳;吴家宏;张凯胜;孙铁囤;姚伟忠;胡琴;尹伟平 | 申请(专利权)人: | 常州亿晶光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068 |
代理公司: | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 王志慧 |
地址: | 213213 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 绝缘 保护层 制备 电池 方法 | ||
1.一种利用绝缘边保护层来制备N型电池的方法,包括以下的步骤:
(1)选择N型的单晶硅片,经过清洗制绒、硼扩散、去BSG;
(2)利用滚筒传输装置,将介电层膜均匀的涂抹在硅片的边缘,涂抹厚度为0.1~5mm;介电层的材质按质量百分比,由20%玻璃粉、35%乙基纤维素、45%松油醇混合得到;所述边缘为硅片侧边,不含底部;
其中,玻璃粉中包含80-100%质量的玻璃粉末和0-20%质量的陶瓷粉末,其中:玻璃粉末由下述组分组成,按质量百分比计算,3~25%BaO、25~60%ZnO、15~35%B2O3、3~30%SiO2、0.2~6%Li2O和0~1.5%Al2O3;陶瓷粉末是选自氧化铝、氧化锆、锆石、氧化钛、堇青石、莫来石、硅石、硅锌矿、氧化锡和氧化锌中的至少一种;
(3)利用扩散进行磷扩散前或LPCVD沉积多晶硅前,利用高温将介电层与硅片进行微烧结;微烧结的条件为:N2:100~5000sccm,温度设定500~900℃,时间设定1~30min;
(4)脱胶,利用HF将绝缘的介电层及沉积在介电层上的磷一起进行剥离;
(5)RCA去PSG层或多晶硅层绕镀后、正面进行AlOx、SiNx钝化,背面进行SiNx钝化;
(6)正面印刷银浆后进行烧结。
2.根据权利要求1所述利用绝缘边保护层来制备N型电池的方法,其特征在于:所述步骤(4)脱胶,利用HF将绝缘的介电层及沉积在介电层上的磷一起进行剥离,其中HF的浓度设定质量分数1%~15%,时间设定30s~600s。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州亿晶光电科技有限公司,未经常州亿晶光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011123637.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种适用于竖井的取土样装置及取样方法
- 下一篇:一种平台系统对接的方法及装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的