[发明专利]非金属可见光激光红外多波段兼容隐身薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011125741.4 申请日: 2020-10-20
公开(公告)号: CN112346160B 公开(公告)日: 2023-02-21
发明(设计)人: 刘彪;时家明;吕相银;赵大鹏;汪家春;陈宗胜;李志刚;陈蕾蕾;程立 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;C23C14/30;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/20
代理公司: 合肥兆信知识产权代理事务所(普通合伙) 34161 代理人: 孟祥龙
地址: 410073 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 非金属 可见光 激光 红外 波段 兼容 隐身 薄膜 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种非金属可见光激光红外多波段兼容隐身薄膜,其特征在于:该薄膜为多层膜结构,所述多层膜结构包括基底,以及依次设置在基底上的中远红外隐身层和可见光隐身层;

所述基底为无纺布,或PI、PET、TPU、PVC、BOPP中的一种;

所述中远红外隐身层为19层膜层,所述19层膜层由内向外的厚度分别为:605nm、1150nm、605nm、1150nm、605nm、2580nm、605nm、1150nm、605nm、1150nm、605nm、500nm、220nm、500nm、220nm、500nm、220nm、500nm、220nm;

所述可见光隐身层为4层膜层,所述4层膜层由内向外的厚度分别为:25±5nm、25±5nm、95±25nm、135±25nm;

所述中远红外隐身层由高折射率材料和低折射率材料交替构成,所述可见光隐身层由两种低折射率材料交替构成。

2.根据权利要求1所述的非金属可见光激光红外多波段兼容隐身薄膜,其特征在于:所述高折射率材料包括碲、硅、锗,所述低折射率材料包括硫化锌,硒化锌、氟化钙。

3.根据权利要求1所述的非金属可见光激光红外多波段兼容隐身薄膜的制备方法,其特征在于:采用镀膜方法于基底上依次镀制远红外隐身层和可见光隐身层。

4.根据权利要求3所述的非金属可见光激光红外多波段兼容隐身薄膜的制备方法,其特征在于:所述镀膜方法为电子束蒸发镀膜、热蒸发镀膜、磁控溅射镀膜法中的一种。

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