[发明专利]用于质谱仪的多电喷雾离子源在审
申请号: | 202011128220.4 | 申请日: | 2020-10-20 |
公开(公告)号: | CN112750680A | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | V·V·科夫通;E·R·武泰斯 | 申请(专利权)人: | 萨默费尼根有限公司 |
主分类号: | H01J49/16 | 分类号: | H01J49/16;H01J49/04;H01J49/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈洁;周全 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 质谱仪 喷雾 离子源 | ||
1.一种用于质谱仪的电喷雾离子源,所述电喷雾离子源包括:
位于电离室内的多个(N个)电喷雾发射器,其中N≥2;
混合室;
多个(N个)入口,每个入口包括能从所述电喷雾发射器中相应的一个电喷雾发射器接收带电粒子并且将所述带电粒子发射到所述混合室中的导管;
出口端口,所述出口端口面向中间真空室或位于所述中间真空室内;以及
加热器,所述加热器与所述混合室的至少一部分热接触。
2.根据权利要求1所述的电喷雾离子源,其中所述混合室包含出口管的内腔,所述出口管具有所述出口端口并且包括中心纵轴,并且其中每个入口导管相对于所述中心纵轴的延伸方向以相同的角度α安置,其中α≠0。
3.根据权利要求1所述的电喷雾离子源,其中每个电喷雾发射器包括发射尖端,并且所有这些N个发射尖端均位于一个公共圆上。
4.根据权利要求3所述的电喷雾离子源,其中每个发射尖端安置在距每个其它发射尖端至少3mm的距离处。
5.根据权利要求4所述的电喷雾离子源,其中每个发射尖端安置在距每个其它发射尖端至少5mm的距离处。
6.根据权利要求2所述的电喷雾离子源,其中每个发射尖端包括具有圆锥轴线的圆锥形部分,其中每个圆锥轴线与所述入口的纵轴相对准,所述入口被配置成接收从所述每个发射尖端发射的所述带电粒子。
7.根据权利要求1所述的电喷雾离子源,其进一步包括:
多个电极,所述多个电极安置在所述多个入口与离子传输管之间的所述混合室内;及
电源,所述电源被配置成向所述多个电极中的每一个电极供应相应的DC电压,其中所供应的电压从所述混合室的第一端部到相对端部逐渐增加或逐渐减小,其中所述电源被配置成不向所述多个电极中的任何一个电极供应RF电压。
8.根据权利要求1所述的电喷雾离子源,其进一步包括:
电阻构件,所述电阻构件包括电阻性材料,该材料安置在所述多个入口与所述离子传输管之间,并且所述电阻构件具有第一端部和第二端部;及
电源,所述电源被配置成在所述电阻构件的所述第一端部与所述第二端部之间供应DC电压。
9.根据权利要求8所述的电喷雾离子源,其中所述电阻构件包括所述混合室的边界的至少一部分。
10.根据权利要求1所述的电喷雾离子源,其中所述混合室、所述多个(N个)入口和所述出口端口均为单个整体式离子传输管的构成部分。
11.根据权利要求2所述的电喷雾离子源,其中所述混合室、所述多个(N个)入口和所述出口管均为单个整体式离子传输管的构成区段。
12.根据权利要求1所述的电喷雾离子源,其中所述混合室的表面的一部分的形状为漏斗的一部分。
13.一种质谱分析方法,其包括:
(a)提供电离室;
(b)提供混合室;
(c)提供出口端口,所述出口端口被配置成将带电粒子从所述混合室传输到质谱仪的抽空室;以及
(d)在所述电离室内提供多个(N个)电喷雾发射器,其中每个电喷雾发射器包括发射尖端,所述发射尖端包括相对于所述混合室的纵轴延伸方向以角α安置的导管,其中α≠0,并且其中任何两个发射尖端彼此之间的距离不小于3mm;以及
(e)提供多个入口,每个入口包括被配置成从所述电喷雾发射器中相应的一个电喷雾发射器接收所述带电粒子的一部分并且将所述带电粒子的所述部分传输到所述混合室中的导管。
14.根据权利要求13所述的质谱分析方法,其中所述角α是十度。
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