[发明专利]一种麻醉科用麻醉深度检测装置在审

专利信息
申请号: 202011129328.5 申请日: 2020-10-21
公开(公告)号: CN112244778A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 徐鸿宇 申请(专利权)人: 徐鸿宇
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 深圳至诚化育知识产权代理事务所(普通合伙) 44728 代理人: 刘英
地址: 255000 山东*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 麻醉科 麻醉 深度 检测 装置
【说明书】:

发明涉及麻醉深度检测装置技术领域,具体为一种麻醉科用麻醉深度检测装置,包括显示装置主体,所述显示装置主体左端设置有母插头,且显示装置主体下方设置有检测装置主体,所述检测装置主体内部放置有检测头,且检测头上皆设置有公插头,所述检测头与公插头之间连接有导线,所述显示装置主体底端设置有固定机构,且检测装置主体内部设置有收纳机构,所述检测装置主体内部底端设置有推动机构,且检测装置主体前端上侧设置有卡合机构。本发明带来了在母插头与公插头插接时,防护板对连接的位置进行防护,有效的避免其脱落,保证显示装置主体正常显示,使得连接更加稳定,增加了装置连接的稳定性。

技术领域

本发明涉及麻醉深度检测装置技术领域,具体为一种麻醉科用麻醉深度检测装置。

背景技术

在手术过程中,手术前的麻醉过程极为重要,维持适当的麻醉深度对于确保病人安全和提供良好的手术条件是十分重要的,为此,掌握全麻深度的监测和临床判断越来越受到临床的重视,因此在麻醉时会用到麻醉深度检测装置,采用脑电采集模板,以每秒2000次的脑电信号采集速率,采集EEG脑电波并分析其时域特征。通过ANFIS模糊逻辑运算系统,精确计算出麻醉深度指数CSI,准确地反映临床麻醉中手术患者的麻醉程度和镇静水平,即通过检测模块和显示模块等装置配套使用进行检测,因此可知现在的麻醉深度检测装置基本满足人们需求,但是仍然存在一些问题。

问题一:将检测装置与显示装置主体连接时,一般采用插接式连接,但是插接的位置往往不设置有防脱落结构,在使用的过程中将检测装置固定在患者身上时,可能会导致连接位置松动,影响装置正常使用。

问题二:由于检测装置设置有多组,每次在使用后没有专用的收纳装置,使得检测装置摆放混乱,并且连接的导线没有专门收纳装置,使得导线摆放散乱容易打结,下次使用时较为麻烦不便,因此亟需一种麻醉科用麻醉深度检测装置来解决上述问题;

问题三:由于显示装置主体和检测装置主体需配合使用,而显示装置主体在使用时往往直接放置在检测装置主体上方,但显示装置主体与检测装置主体之间不设置有固定机构,人们可能会不小心碰到显示装置主体,使得显示装置主体掉落,导致显示装置主体损坏,影响装置正常使用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种麻醉科用麻醉深度检测装置,以解决上述背景技术中提出的插接的位置往往不设置有防脱落结构,在使用的过程中将检测装置固定在患者身上时,可能会导致连接位置松动,影响装置正常使用的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种麻醉科用麻醉深度检测装置,包括显示装置主体、母插头、检测头、导线、公插头和检测装置主体,所述显示装置主体左端设置有母插头,且显示装置主体下方设置有检测装置主体,所述检测装置主体内部放置有检测头,且检测头上皆设置有公插头,所述检测头与公插头之间连接有导线,且显示装置主体左方设置有防护机构,所述防护机构包括第一固定板、活动块、第一弹簧、防护板、第一过渡槽、第二过渡槽、第一转动杆、转动凸块和第一挡板,所述显示装置主体左端前后两侧皆固定连接有两组第一固定板,四组所述第一固定板内部皆插设有活动块,且活动块外部皆套设有第一弹簧,所述第一弹簧两端皆分别固定连接在活动块和第一固定板上,且活动块互相靠近的一端固定连接有防护板,所述防护板前端皆开设有第一过渡槽,且第一过渡槽后方的防护板上开设有第二过渡槽,所述显示装置主体左端中部通过轴承活动连接有第一转动杆,所述第一转动杆前端贯穿防护板并延伸至防护板外部,且防护板上开设有与第一转动杆相互配合的操控通过,所述第一转动杆外侧右端固定连接有转动凸块,且防护板互相远离的一端上皆固定连接有第一挡板,所述公插头外侧后端固定连接有限位板,且转动块后方的导线外部胶粘有握持块,所述显示装置主体底端设置有固定机构,且检测装置主体内部设置有收纳机构,所述检测装置主体内部底端设置有推动机构,且检测装置主体前端上侧设置有卡合机构,采用这种设计便于使得对公插头进行限位,从而使得公插头与母插头连接更加稳定,不易脱落。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于徐鸿宇,未经徐鸿宇许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011129328.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top