[发明专利]一种光致增强型量子点膜的制作方法在审
申请号: | 202011130712.7 | 申请日: | 2020-10-21 |
公开(公告)号: | CN112226228A | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 罗培栋;缪燃;王立超 | 申请(专利权)人: | 宁波东旭成新材料科技有限公司 |
主分类号: | C09K11/02 | 分类号: | C09K11/02;B82Y20/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 慈溪方升专利代理事务所(普通合伙) 33292 | 代理人: | 严晓 |
地址: | 315321 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 增强 量子 制作方法 | ||
1.一种光致增强型量子点膜的制作方法,其特征在于该制作方法包括如此下步骤:
S1:提供量子点基膜,该量子点基膜为含有量子点的丙烯酸树脂膜;
S2:在所述量子点基膜上涂敷微米级二氧化硅粒子层;
S3:在所述量子点基膜上涂布丙烯酸酯胶水;
S4:对所述量子点基膜进行电子束处理。
2.如权利要求1所述的光致增强型量子点膜的制作方法,其特征在于:步骤S4中电子束处理的时间为0.5~5秒。
3.如权利要求1或2所述的光致增强型量子点膜的制作方法,其特征在于:所述二氧化硅粒子的直径为0.1~2μm。
4.如权利要求1或2所述的光致增强型量子点膜的制作方法,其特征在于:所述二氧化硅粒子的直径为0.1~2μm。
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