[发明专利]光学指纹识别和防伪方法及系统在审

专利信息
申请号: 202011137158.5 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN113139414A 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 程泰毅;朱东星;张骁驰;谢詹奇 申请(专利权)人: 上海思立微电子科技有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 侯玲玲;张印铎
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 指纹识别 防伪 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,包括:

形成指纹识别光斑,并利用所述指纹识别光斑照射目标对象;

形成具有预设图案的防伪检测光斑,并利用所述防伪检测光斑照射目标对象;

提供感光单元,分别接收所述目标对象在所述指纹识别光斑照射和在所述防伪检测光斑照射下的所携带的指纹信息,所述感光单元所接收的目标对象在所述防伪检测光斑照射下所携带的指纹信息而形成指纹防伪图像;

依据所述指纹防伪图像判断所述目标对象为二维手指或者三维手指;其中,所述防伪检测光斑的预设图案包括发光强度相异的第一检测区和第二检测区;提取所述指纹防伪图像中二维手指和三维手指对应的差异化特征参数而判断目标对象为二维手指或者三维手指。

2.如权利要求1所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,所述第一检测区的发光强度大于所述第二检测区的发光强度,所述第二检测区的发光强度为零。

3.如权利要求2所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,所述第一检测区的面积大于所述第二检测区的面积。

4.如权利要求1所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,所述第二检测区离散分布于所述防伪检测光斑中。

5.如权利要求1所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,所述差异化特征参数包括:所述指纹防伪图像中与预设图案防伪检测光斑对应的防伪区域的指纹图像的灰度值或者灰度值的对比度。

6.如权利要求5所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,还包括对所述差异化特征参数设定阈值范围,依据所述差异化特征参数是否在阈值范围内而判断目标对象为二维手指或者三维手指。

7.如权利要求5所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,所述指纹防伪图像包括与所述第一检测区对应的第一成像区以及紧邻所述第一成像区的过渡区以及与所述第二检测区对应的第二成像区;所述过渡区位于所述第一成像区和所述第二成像区之间。

8.如权利要求1所述的光学指纹识别和防伪方法,其特征在于,所述预设图案的防伪检测光斑包含若干个离散的第二检测区。

9.一种光学指纹识别和防伪系统,应用于具有指纹识别区的电子设备,其特征在于,包括:光学识别和防伪装置以及控制单元;

所述光学识别和防伪装置包括:

探测光源,所述探测光源照射至所述电子设备指纹识别区上的待识别对象;

光学功能单元,设置于所述指纹识别区下方,接受所述待识别对象反射的光信号;以及

感光单元,设置于所述光学功能单元下方,接受经所述光学功能单元处理后的光信号形成指纹感测图像;

其中,所述控制单元控制所述探测光源分别作为识别光源和防伪光源;在所述电子设备对识别对象进行指纹识别防伪时,所述系统控制所述探测光源形成预设图案的防伪检测光斑;所述防伪检测光斑的预设图案包括发光强度相异的第一检测区和第二检测区;所述控制单元提取感光单元对应所述防伪检测光斑所输出的指纹感测图像中防伪特征参数而判别待识别对象为二维图像或者三维图像。

10.如权利要求9所述的光学指纹识别和防伪系统,其特征在于,所述感光单元对应所述防伪检测光斑所输出的指纹感测图像包括与所述第一检测区对应的第一成像区以及紧邻所述第一成像区的过渡区以及与所述第二检测区对应的第二成像区;所述过渡区位于所述第一成像区和所述第二成像区之间。

11.如权利要求9所述的光学指纹识别和防伪系统,其特征在于,所述第一检测区的发光强度大于所述第二检测区的发光强度,所述第二检测区的发光强度为零。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海思立微电子科技有限公司,未经上海思立微电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011137158.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top