[发明专利]一种MOCVD装置及其托盘有效
申请号: | 202011138297.X | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN112267103B | 公开(公告)日: | 2022-08-26 |
发明(设计)人: | 罗轶;张健;郭庆霞;易斌 | 申请(专利权)人: | 北京创盈光电医疗科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 韩静粉 |
地址: | 100176 北京市北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mocvd 装置 及其 托盘 | ||
1.一种MOCVD装置的托盘,用于放置衬底,其特征在于,包括:
托盘主体,所述托盘主体具有锥形安装孔;
托盘组件,所述托盘组件用于与所述衬底的底面贴合,所述托盘组件能够与所述托盘主体的锥形安装孔配合且能够沿所述锥形安装孔的轴向移动,在所述托盘组件相对于所述托盘主体移动过程中能够使所述衬底的底面外露;所述托盘主体具有能够与所述衬底配合安装的衬底安装孔,所述衬底安装孔与所述锥形安装孔对接。
2.根据权利要求1所述的托盘,其特征在于,所述衬底安装孔与所述锥形安装孔的大端对接,并且所述衬底安装孔的径向尺寸大于所述锥形安装孔的大端的径向尺寸并形成台阶段,所述锥形安装孔的大端的径向尺寸大于所述锥形安装孔的小端的径向尺寸。
3.根据权利要求2所述的托盘,其特征在于,所述托盘主体在所述锥形安装孔的小端设置用于支撑所述托盘组件的台阶面。
4.根据权利要求1所述的托盘,其特征在于,所述衬底安装孔与所述锥形安装孔的小端相对,并且所述衬底安装孔的径向尺寸不大于所述锥形安装孔小端的径向尺寸。
5.根据权利要求4所述的托盘,其特征在于,所述衬底安装孔内设置有用于支撑所述衬底的台阶结构。
6.一种MOCVD装置,包括具有加热系统和托盘的反应腔,其特征在于,所述托盘为如权利要求1-5任一项所述的托盘。
7.根据权利要求6所述的MOCVD装置,其特征在于,所述托盘为两个,且结构相同,并分布在所述加热系统的两侧。
8.根据权利要求6所述的MOCVD装置,其特征在于,所述托盘为两个,分别为:
第一托盘,所述第一托盘包括:第一托盘主体,所述第一托盘主体具有第一锥形安装孔和第一衬底安装孔;第一托盘组件,所述第一托盘组件能够与所述第一托盘主体的锥形安装孔配合并能够沿所述第一锥形安装孔的轴向移动;所述第一衬底安装孔与所述第一锥形安装孔的大端对接,并且所述第一衬底安装孔的径向尺寸大于所述第一锥形安装孔的大端的径向尺寸并形成台阶段;
第二托盘,所述第二托盘包括:第二托盘主体,所述第二托盘主体具有第二锥形安装孔和第二衬底安装孔;第二托盘组件,所述第二托盘组件能够与所述第二托盘主体的锥形安装孔配合并能够沿所述第二锥形安装孔的轴向移动;所述第二衬底安装孔与所述第二锥形安装孔的小端相对,并且所述第二衬底安装孔的径向尺寸不大于所述第二锥形安装孔小端的径向尺寸;
所述第一托盘位于所述加热系统的下侧,所述第二托盘位于所述加热系统的上侧,且所述第一衬底安装孔与所述第二衬底安装孔相对布置。
9.根据权利要求7或8所述的MOCVD装置,其特征在于,所述加热系统两侧的反应腔的腔壁上设置有气体分配系统和排气管路。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的