[发明专利]一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺

权利要求书

1.一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，具体工艺步骤如下：

步骤1、制粉：将红页岩和红黏土采用磨粉机进行粉碎，过150-200目筛，得到坯体粉料；

步骤2、发酵：将步骤1得到的坯体粉料加水进行发酵，发酵放置时间为48-54h，得到发酵物料；

步骤3、压制成型：将步骤2得到的发酵物料注入模具中，压制成坯，脱模，得到坯体；

步骤4、烘干：将步骤3得到的坯体烘干至含水率至1.5-2％，得到瓦坯；

步骤5、施釉：采用釉料涂布于瓦坯反面，再经干燥，得到施釉瓦坯；

步骤6、烧成：将步骤5得到的施釉瓦坯转入辊道窑中进行烧成，烧成气氛为强还原气氛，烧成温度控制在1000-1100℃，烧成时间为45-60min，最后进入蒸汽隔氧冷却阶段，温度冷却至室温，得到单面施釉勾瓦。

2.根据权利要求1所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述红页岩和红黏土之间的质量比为1：2-3。

3.根据权利要求1所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述步骤3中压制条件为：压力为62-65MPa，温度为100-110℃，保温保压时间为35-40min。

4.根据权利要求1所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述步骤5采用釉料的原料组成以质量份数计：石灰石10-15份、钾长石25-30份、高岭土2-5份、石英7-9份、色料5-10份、纳米二氧化硅60-80份、异丙醇铝溶液10-15份、水50-55份。

5.根据权利要求4所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述色料包括梅子青、孔雀绿、钴蓝、镨黄、大红色料中的一种。

6.根据权利要求4所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述釉料的制备方法是：将上述各组分按质量份数称重，直接放入球磨机中进行球磨，球磨时间为25-30h，得到釉料。

7.根据权利要求1所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述步骤5中釉料涂布厚度为0.1-0.2mm。

8.根据权利要求1所述的一种单面施釉还青勾瓦烧成工艺，其特征在于，所述步骤5中干燥温度为350-400℃，时间为20-30min。