[发明专利]一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

1）原料准备：

无机相准备：选自氧化铈、氧化铝、氧化锆、氧化钇、氧化镁、氧化钡、氧化锶、碳化硅、氮化硅中的多种的组合，当混合时，为任意比例；

有机相准备：将乙基纤维素在90℃溶解于松油醇中，乙基纤维素和松油醇按照4-6：94-96的质量比，得到黄色透明液体；

功能助剂准备：分散剂选自长链脂肪酸，为具有官能胺、酸性酯或醇基团的硬脂酸中的一种；烧结助剂选自氯化锂、氧化锂、氧化钇中的一种；分散剂和烧结助剂按照1:1的质量比；

无机相、有机相、功能助剂，按照61-63：36-38：1的质量比；

2）将上步骤得到的有机相和分散机混合均匀，再和无机相混合，通过行星球磨机球磨混合均匀得到膏状物，球磨后的物料粘度范围为9000-14000 mpa.s；

3）涂层制备工艺：将上步骤得到的物料，通过：

①丝网印刷：反复涂覆，每次涂覆完将涂覆有涂层的基底烘干，烘干溶剂后再在干的涂层上印刷涂层，反复涂覆，最终涂层厚度为15-30μm，待烘干溶剂后，将涂覆有涂层的基底至于高温炉中，将涂层完全烧结，烧结后的涂层厚度为10-20μm；

或者是

②等离子喷涂：经过球磨混合均匀，再通过喷雾干燥工艺造粒获得团聚粉末，团聚粉末高温焙烧得到适合等离子喷涂工艺的成品粉末，最后通过等离子喷涂工艺在基底上耐高温光谱选择性红外隐身涂层。

2.根据权利要求1所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，其特征在于：步骤1）所述的选自氧化铈、氧化锆、氧化铝、氧化钇、氧化镁、氧化钡、氧化锶、碳化硅、氮化硅中，氧化物的纯度≥99%，平均粒径为1.0-3.0μm。

3.根据权利要求1所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，其特征在于：步骤1）所述的有机相准备，是将乙基纤维素在90℃溶解于松油醇4.中，乙基纤维素和松油醇按照5：95的质量比，得到黄色透明液体。

4.根据权利要求1所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，其特征在于：步骤1）所述的无机相、有机相、功能助剂，是按照62：37：1的质量比。

5.根据权利要求1所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，其特征在于：步骤3）所述的基底选自C/SiC陶瓷基复合材料、氧化铝陶瓷、高温镍基合金中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法，其特征在于：步骤3）所述的丝网印刷，是指：采用150目丝网，反复涂覆4-6次，每次涂覆完将涂覆有涂层的基底置于烘箱中烘干，烘干溶剂后再在干的涂层上印刷涂层，反复涂覆4-6次，最终涂层厚度为15-30μm，待烘干溶剂后，将涂覆有涂层的基底至于高温炉中，先缓慢升温至300℃烧结1-2h排除剩余的有机物，再缓慢升温至1000-1500℃，并保温4-24h直至涂层完全烧结，烧结后的涂层厚度为10-20μm。

7.一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层，其特征在于：采用权利要求1-6任一项所述的一种耐高温光谱选择性红外隐身涂层的制备方法得到，是一种氧化物涂层，3-5μm红外发射率＜0.3，5-25μm红外发射率＞0.80。