[发明专利]一种去磨纹的硅蚀刻液有效
| 申请号： | 202011139447.9 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112251233B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 万杨阳;郝晓斌;贺兆波;尹印;张庭;冯凯;王书萍;张演哲;钟昌东;李鑫;蔡步林 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;C09K13/08;C23F1/24 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去磨纹 蚀刻 | ||
【权利要求书】：
1.一种去磨纹的硅蚀刻液，其特征在于，所述硅蚀刻液组分为硝酸、硝酸羟胺、氟磺酸、二氟化氢铵、二氟化氙、硫酸、增稠剂和去离子水；硅蚀刻液中硝酸的重量含量在3%~7%；硝酸羟胺的重量含量在0.01%~0.5%；氟磺酸的重量含量在0.1%~1%；二氟化氢铵的重量含量在4%~8%；二氟化氙的重量含量在0.1%~2%；硫酸的重量含量在75%~85%；增稠剂的重量含量在0.01%~0.1%；去离子水的重量含量为余量。
2.根据权利要求1所述的去磨纹的硅蚀刻液，其特征在于：所述的增稠剂包括聚丙烯酰胺、己醇、辛醇、聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮中的至少一种。
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