[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202011140259.8 申请日: 2020-10-22
公开(公告)号: CN112259590B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 王欣欣;许名宏 申请(专利权)人: 合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H10K59/122 分类号: H10K59/122;H10K50/805;H10K71/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 230012 安徽省合肥市新*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

背板;

第一电极,设于所述背板的一侧,所述第一电极的远离所述背板的一面为第一平面;

辅助层,设于所述背板的与所述第一电极相同的一侧,所述辅助层的远离所述背板的一面为第二平面,所述第二平面与所述第一平面共面,或所述第二平面比所述第一平面更远离所述背板;至少部分所述辅助层与所述第一电极同层同材料设置,且与所述第一电极之间设置有间隙;

像素界定层,设于所述辅助层的远离所述背板的一侧,所述像素界定层的高度大于等于3微米且小于等于5微米;

发光层组,设于所述第一电极的远离所述背板的一侧,所述发光层组至少覆盖所述第一电极;

第二电极,设于所述发光层组的远离所述背板的一侧;

辅助电极,设于所述第二电极的远离所述背板的一侧,且所述辅助电极在所述背板上的正投影位于所述像素界定层在所述背板上的正投影内。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所示背板包括:

绝缘层,在所述绝缘层上设置有凹槽以及突出部,所述第一电极设置在所述凹槽内。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:

增高层,设于所述突出部的远离所述背板的一侧,所述增高层与所述突出部形成所述辅助层,所述增高层与所述第一电极同层同材料设置,且与所述第一电极之间设置有间隙。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光层组覆盖所述第一电极以及所述像素界定层。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:

保护层,设于所述辅助电极的远离所述背板的一侧。

6.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

提供一背板,在所述背板的同一侧形成第一电极和辅助层,所述第一电极的远离所述背板的一面为第一平面,所述辅助层的远离所述背板的一面为第二平面,所述第二平面与所述第一平面共面,或所述第二平面比所述第一平面更远离所述背板;至少部分所述辅助层与所述第一电极同层同材料设置,且与所述第一电极之间设置有间隙;

在所述辅助层的远离所述背板的一侧形成像素界定层,所述像素界定层的高度大于等于3微米且小于等于5微米;

在所述第一电极的远离所述背板的一侧形成发光层组,所述发光层组至少覆盖所述第一电极;

在所述发光层组的远离所述背板的一侧形成第二电极;

在所述第二电极的远离所述背板的一侧形成辅助电极,且所述辅助电极在所述背板上的正投影位于所述像素界定层在所述背板上的正投影内。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在所述第二电极的远离所述背板的一侧形成辅助电极,包括:

提供一基板,在所述基板上形成辅助电极材料层;

将形成所述辅助电极材料层的所述基板覆盖在所述第二电极的远离所述背板的一面,且使所述辅助电极材料层与所述第二电极接触;

通过辊轮辊压所述基板;

剥离所述基板,使与所述第二电极接触的所述辅助电极材料层保留形成所述辅助电极。

8.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法,其特征在于,提供一背板,在所述背板的同一侧形成第一电极和辅助层,包括:

在所述背板的一侧形成第一电极材料层,对所述第一电极材料层进行图案化处理形成所述第一电极和所述辅助层,且在所述第一电极和所述辅助层之间形成间隙。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方卓印科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011140259.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top