[发明专利]一种阴影处理方法和装置在审
申请号: | 202011141181.1 | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN112190941A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 李展钊 | 申请(专利权)人: | 网易(杭州)网络有限公司 |
主分类号: | A63F13/52 | 分类号: | A63F13/52;G06T15/00;G06T15/04;G06T15/60 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 吴文心 |
地址: | 310052 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 阴影 处理 方法 装置 | ||
本发明实施例提供了一种阴影处理方法及装置,其中,所述的方法包括:获取待处理模型的阴影数据;采用所述阴影数据确定所述待处理模型中阴影的过渡区域;采用所述阴影数据确定所述过渡区域中各个位置的阴影强度;按照所述阴影强度从预设颜色查找数据中采样得到目标颜色;采用所述目标颜色设置所述过渡区域中对应位置的颜色,得到所述待处理模型的阴影贴图。从而可以使过渡区域的阴影柔和,使得采用阴影贴图进行渲染得到的待处理模型呈现软阴影透射效果,可以减少性能消耗,并且不依赖全屏后处理功能,可以单独控制某一模型的效果。
技术领域
本发明涉及计算机图形学技术领域,特别是涉及一种阴影处理方法和一种阴影处理装置。
背景技术
随着游戏的发展,在3D游戏的迅猛发展下,对于光影的实现方案日趋复杂,其中,为了提高画面的真实性,对于一些模型,需要实现阴影下的透射效果。
现有技术中,在需要实现阴影下的透射效果时,通常会使用Screen SpaceSubfurface Scattering,屏幕空间次表面散射技术,但是这个技术属于后处理,虽然可以达到实现阴影下的透射的效果,但是其在美术制作上可控性较低,所有的效果都是针对全屏幕进行,所有的模型的阴影透射效果会一致,如果要单独控制某一模型的效果并非易事,美术进行个性化设计较难,并且消耗较大。
发明内容
鉴于上述问题,提出了本发明实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种阴影处理方法和相应的一种阴影处理装置。
本发明实施例公开了一种阴影处理方法,包括:
获取待处理模型的阴影数据;
采用所述阴影数据确定所述待处理模型中阴影的过渡区域;
采用所述阴影数据确定所述过渡区域中各个位置的阴影强度;
按照所述阴影强度从预设颜色查找数据中采样得到目标颜色;
采用所述目标颜色设置所述过渡区域中对应位置的颜色,得到所述待处理模型的阴影贴图。
可选地,所述采用所述阴影数据确定所述过渡区域中各个位置的阴影强度,包括:
依次从所述过渡区域中确定当前操作位置;
从所述阴影数据中,确定与所述当前操作位置的预设范围内的多个位置对应的多个目标阴影数据;
采用所述多个目标阴影数据计算得到所述当前操作位置的阴影强度。
可选地,所述采用所述阴影数据确定所述待处理模型中阴影的过渡区域,包括:
采用所述阴影数据确定所述待处理模型中的阴影区域和非阴影区域;
采用所述阴影区域和非阴影区域确定阴影边缘位置;
确定所述阴影边缘位置的预设范围内的区域为过渡区域。
可选地,还包括:
采用所述阴影贴图渲染所述待处理模型,以使所述待处理模型呈现软阴影透射效果。
可选地,所述预设颜色查找数据为颜色对照图,所述按照所述阴影强度从预设颜色查找数据中采样得到目标颜色,包括:
采用所述阴影强度确定采样坐标;
按照所述采样坐标从所述颜色对照图中采样得到目标颜色。
可选地,所述按照所述采样坐标从所述颜色对照图中采样得到目标颜色,包括:
确定所述待处理模型的类型;
获取与待处理模型的类型匹配的目标颜色对照图;
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