[发明专利]一种真空镀膜的玻璃基板架及其镀膜系统和镀膜系统的传输方法

权利要求书

1.一种真空镀膜的玻璃基板架，包括基板架（1）、上旋转座（2）、下旋转座（3）和真空驱动机构（4），其特征在于：所述基板架（1）包括若干横梁（5）和竖梁（6），若干所述横梁（5）和竖梁（6）将基板架（1）分隔为玻璃安装间隔（7）和真空驱动机构间隔（8），所述玻璃安装间隔（7）阵列式排布，若干所述玻璃安装间隔（7）上下的横梁（5）上分别活动安装有上旋转座（2）和下旋转座（3），所述上旋转座（2）和下旋转座（3）一一对应式设置；

若干所述上旋转座（2）包括上旋转盘（9），所述上旋转盘（9）底部固定安装有玻璃固定弹片（10），所述上旋转盘（9）通过上转轴（11）活动插设在弹簧套（12）内，所述弹簧套（12）内设置有复位弹簧，所述弹簧套活动安装在伸缩机构（13）内；

若干所述下旋转座（3）包括下旋转盘（14），所述下旋转盘（14）上部固定安装有玻璃固定弹片（10），所述下旋转盘（14）底部通过下转轴（15）活动安装在弹簧套（12）内，所述弹簧套（12）内设置有复位弹簧，所述下转轴（15）远离下旋转盘（14）一端固定安装有从动同步轮（16）；

所述真空驱动机构（4）安装在真空驱动机构间隔（8）内，所述真空驱动机构（4）包括筒体（17），所述筒体（17）内部一侧固定安装有充气伸缩气囊（18），所述充气伸缩气囊（18）的伸缩端固定安装有挤压板（19），所述挤压板（19）上端固定安装有伸缩齿条（20），所述伸缩齿条（20）与主动斜齿轮盘（21）活动配合，所述主动斜齿轮盘（21）与从动斜齿轮（22）啮合，所述从动斜齿轮（22）固定连接在驱动连杆（23）上，所述驱动连杆（23）上间隔均匀设置有若干主动同步带轮（24），所述主动同步带轮（24）均通过同步带（25）与水平方向设置的若干从动同步轮（16）连接，所述从动斜齿轮（22）、驱动连杆（23）、同步带（25）和从动同步轮（16）均设置于基板架（1）内部；

所述伸缩机构（13）包括伸缩套筒（26），所述上旋转座（2）的弹簧套（12）活动安装在伸缩套筒（26）内，所述伸缩套筒（26）一侧通过螺纹旋钮（27）活动抵靠在弹簧套（12）上；

所述下旋转盘（14）一侧均固定安装有阻挡块（28），所述阻挡块（28）均与横梁（5）上对应设置的阻挡杆（29）活动连接；

所述筒体（17）内固定安装有滑杆（30），所述挤压板（19）上开设有供滑杆（30）穿过的通孔，所述滑杆（30）远离充气伸缩气囊（18）一侧的杆体上套设有减速弹簧（31）；

所述基板架（1）顶端的横梁（5）上开设有磁铁安装槽（32），所述磁铁安装槽（32）内均匀排列有基板架定位磁铁（33）。

2.一种镀膜系统，包括用于承载玻璃的基板架系统，其特征在于：该基板架系统采用权利要求1所述的玻璃基板架。

3.一种镀膜系统的传输方法，该镀膜系统的传输方法采用权利要求1所述的玻璃基板架，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一：工作人员将待镀膜的玻璃通过玻璃固定弹片（10）安装在各个玻璃安装间隔（7）内；

步骤二：装载完成的待镀膜玻璃通过真空镀膜室底部的槽轮输送机构输送至磁控溅射室内部，基板架（1）上部通过磁控溅射室顶部设置的吸引磁块进行吸引，从而保证基板架（1）不发生倾倒；

步骤三：进入真空镀膜室后，通过旋转阴极靶材或平面阴极靶材的磁控溅射源将一侧的玻璃表面进行镀膜；

步骤四：由于磁控溅射室内部处于相对真空环境，内部的空气稀薄，从而导致充气伸缩气囊（18）在进入真空室内部后内外的压强失衡从而发生膨胀，充气伸缩气囊（18）膨胀带动挤压板（19）移动，挤压板（19）移动带动伸缩齿条（20）移动，在伸缩齿条（20）移动过程而未与主动斜齿轮盘（21）啮合的一段时间内，此时旋转阴极靶材或平面阴极靶材的磁控溅射源对一侧玻璃进行镀膜，当伸缩齿条（20）移动至与主动斜齿轮盘（21）啮合，随着伸缩齿条（20）的继续移动，带动从动斜齿轮（22）连同的驱动连杆（23）和主动同步带轮（24）旋转，进而带动玻璃翻转，当玻璃旋转180°后，在阻挡块（28）和阻挡杆（29）的作用下，玻璃停止旋转，此时伴随着基板架（1）的继续移动，此时对另一侧的玻璃表面进行镀膜；

步骤五：当玻璃双面镀膜完成后，基板架（1）在输送机构的带动下移出磁控溅射室，此时充气伸缩气囊（18）内外的气压保持平衡，上旋转座（2）和下旋转座（3）在复位弹簧及伸缩齿条（20）的反向移动下回旋180°，此时工作人员将完成双面镀膜的玻璃卸下即完成一个镀膜流程。