[发明专利]一种锂离子动力电池低电压平台静置方法在审
申请号: | 202011145493.X | 申请日: | 2020-10-23 |
公开(公告)号: | CN112242565A | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 张亮;李凯;肖洋 | 申请(专利权)人: | 唐山航天万源科技有限公司 |
主分类号: | H01M10/058 | 分类号: | H01M10/058;H01M10/0525 |
代理公司: | 唐山科轩专利代理事务所(特殊普通合伙) 13146 | 代理人: | 孔娟 |
地址: | 063000 河北省唐山市*** | 国省代码: | 河北;13 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 锂离子 动力电池 电压 平台 方法 | ||
本发明提供一种锂离子动力电池低电压平台静置方法,涉及一种锂离子动力电池低电压平台静置方法领域。该一种锂离子动力电池低电压平台静置方法,包括以下步骤:步骤1、向未充过电的锂电池中注入锂电池电解液,封装后转入静置区进行静置,使极片得到充分的浸润;步骤2、然后对锂电池进行充电,充至3.2V截至;步骤3、对充电后的锂电池进行高温静置,所述步骤1中封装后转入静置区进行静置12h,所述步骤2中采用0.01C进行充电,所述步骤2中采用0.02C进行充电,所述步骤3中对充电后的锂电池进行高温静置10h,且高温静置的温度为40‑50℃。通过对锂电池进行首次充充电,电压达到3.2V时,此时SEI膜已基本成型,进行高温静置后能够得到厚度均匀的SEI膜。
技术领域
本发明涉及一种锂离子动力电池低电压平台静置方法领域,具体为一种锂离子动力电池低电压平台静置方法。
背景技术
在锂离子电池首次充放电过程中,电极材料与电解液在固液相界面上发生反应,形成一层覆盖于电极材料表面的钝化层(passivating film),这种钝化层是一种界面层,具有固体电解质的特征,是电子绝缘体却是锂离子的优良导体,锂离子可以经过该钝化层自由地嵌入和脱出,因此这层钝化膜被称为“固体电解质界面膜”(solid electrolyteinterface),简称SEI膜。
SEI 膜是由电解液中各组分还原分解的不溶性产物组成的,电解液中各组分的分解电压不同,并且在不同电压下电解液组分的分解速率也不同。在此情况下,如果电极涂布得不均匀或者浆料不匀,导电剂分散不均匀等将导致在充电过程中,极片各个部分极化不同,即电压分布不均匀。因而电解液在极片的各个部分分解沉积的速率就不同,SEI 膜的厚度以及组成成分存在差异而导致SEI膜不均一,各部分导电性产生不同,而在锂蓄电池中,覆盖在锂电极表面的SE膜性能直接控制着锂电极的电化学行为,电池的循环寿命强烈地依赖于锂的溶解/沉积过程中的不可逆容量,SEI膜的形成过程在其中起着重要的作用。
聚合物锂离子电池在首次充放电化成过程中,由于与嵌锂过程同时发生着电解液溶剂的电化学还原分解,在负极表面会形成固体电解质中间相膜(SEI)从而使系统的电极的动力学趋于稳定. 实验表明 ,SEI层的形成大约从化成电压 2.5 V 开始 ,当化成电压大于 2. 5 V 后 ,产生的气体总量和种类迅速增加;电压超过 3. 8 V 时 ,又因电池的负极表面基本形成了较为稳定的 SEI 层 ,因此 ,电解液溶剂的还原分解速率逐渐减慢 ,产生的气体的总量反而急剧下降,其中 ,3. 0 V~3. 5 V 之间为SEI 层的主要形成电压区间,而在这一电压区间 ,产生的气体组分主要为 C2H4,因此可以认为 ,这时 SEI 层的形成机理主要是电解液溶剂中碳酸乙烯酯(EC)的还原分解该反应历程包括一电子反应和二电子反应,反应分别为:PC + 2 e - + 2Li+ →CH3CH(OCO2Li) CH2 (OCO2Li) ↓+ CH3CH=CH2 ↑;2EC + 2 e - + 2Li+ →(CH2OCO2Li) 2 ↓+ CH2 =CH2 ↑。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种锂离子动力电池低电压平台静置方法,解决了形成的SEI膜厚度和致密性不足的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种锂离子动力电池低电压平台静置方法,包括以下步骤:
步骤1、向未充过电的锂电池中注入锂电池电解液,封装后转入静置区进行静置,使极片得到充分的浸润;
步骤2、然后对锂电池进行充电,充至3.2V截至;
步骤3、对充电后的锂电池进行高温静置。
优选的,所述步骤1中封装后转入静置区进行静置12h。
优选的,所述步骤2中采用0.01C进行充电。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于唐山航天万源科技有限公司,未经唐山航天万源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011145493.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。