[发明专利]薄膜晶体管、包括该薄膜晶体管的栅极驱动器和显示装置在审

专利信息
申请号: 202011150337.2 申请日: 2020-10-23
公开(公告)号: CN112750913A 公开(公告)日: 2021-05-04
发明(设计)人: 金昇鎭;朴志皓;任曙延 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L27/32;G09G3/3233
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 薄膜晶体管 包括 栅极 驱动器 显示装置
【权利要求书】:

1.一种薄膜晶体管,包括:

铁-铟-锌氧化物(FIZO)的第一氧化物半导体层;及

铟-镓-锌氧化物(IGZO)的第二氧化物半导体层,

其中:

在所述第一氧化物半导体层中,铁(Fe)与铟(In)的含量比(Fe/In)小于锌(Zn)与铟(In)的含量比(Zn/In);及

在所述第一氧化物半导体层中,铟(In)的含量大于锌(Zn)的含量。

2.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其中:

所述第一氧化物半导体层的一个侧面的倾角以锐角形成;及

所述第二氧化物半导体层的一个侧面的倾角以直角或锐角形成。

3.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其中:

所述第二氧化物半导体层中的锌(Zn)与铟(In)的含量比(Zn/In)大于所述第一氧化物半导体层中的锌(Zn)与铟(In)的含量比(Zn/In)。

4.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其中,所述第二氧化物半导体层的电阻和带隙能大于所述第一氧化物半导体层的电阻和带隙能,并且所述第二氧化物半导体层的带隙能在所述第一氧化物半导体层的带隙能的105%至130%的范围内。

5.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,还包括栅电极,所述栅电极更靠近所述第一氧化物半导体层,而不是更靠近所述第二氧化物半导体层。

6.根据权利要求1所述的薄膜晶体管,其中,所述第一氧化物半导体层的厚度在至的范围内。

7.根据权利要求5所述的薄膜晶体管,其中,所述第一氧化物半导体层与所述栅电极重叠,在所述第一氧化物半导体层与所述栅电极之间插入有栅极绝缘膜。

8.根据权利要求5所述的薄膜晶体管,其中:

所述栅电极设置在所述第一氧化物半导体层下方;及

所述第二氧化物半导体层设置在所述第一氧化物半导体层上。

9.根据权利要求8所述的薄膜晶体管,还包括:

源电极,被配置为接触所述第一氧化物半导体层的一侧和所述第二氧化物半导体层的一侧;及

漏电极,被配置为接触所述第一氧化物半导体层的另一侧和所述第二氧化物半导体层的另一侧。

10.根据权利要求5所述的薄膜晶体管,其中:

所述栅电极设置在所述第一氧化物半导体层上;及

所述第二氧化物半导体层设置在所述第一氧化物半导体层下方。

11.根据权利要求10所述的薄膜晶体管,还包括:

源电极,被配置为通过穿过层间绝缘膜形成的第一接触孔接触所述第一氧化物半导体层的一侧,所述层间绝缘膜被配置为覆盖所述第一氧化物半导体层和所述第二氧化物半导体层;及

漏电极,被配置为通过穿过所述层间绝缘膜形成的第二接触孔接触所述第一氧化物半导体层的另一侧。

12.根据权利要求11所述的薄膜晶体管,其中:

所述源电极通过穿过所述第一氧化物半导体层形成的所述第一接触孔接触所述第二氧化物半导体层的一侧;及

所述漏电极通过穿过所述第一氧化物半导体层形成的所述第二接触孔接触所述第二氧化物半导体层的另一侧。

13.一种栅极驱动器,包括:

被配置为输出栅极信号的多级,

其中,每一级包括薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括铁-铟-锌氧化物(FIZO)的第一氧化物半导体层,及铟-镓-锌氧化物(IGZO)的第二氧化物半导体层,

其中,在所述第一氧化物半导体层中,铁(Fe)与铟(In)的含量比(Fe/In)小于锌(Zn)与铟(In)的含量比(Zn/In);及

在所述第一氧化物半导体层中,铟(In)的含量大于锌(Zn)的含量。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于乐金显示有限公司,未经乐金显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011150337.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top