[发明专利]一种稳定六方氮化硼(h-BN)高比表面积的方法及其应用在审

专利信息
申请号: 202011153965.6 申请日: 2020-10-26
公开(公告)号: CN112403502A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 林敬东;关健;许明亮;田金树;钱姝雅;张朝霞 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: B01J27/24 分类号: B01J27/24;B01J35/10;B01J37/08;C07C5/48;C07C11/06
代理公司: 北京彭丽芳知识产权代理有限公司 11407 代理人: 彭丽芳
地址: 361005 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 稳定 氮化 bn 表面积 方法 及其 应用
【权利要求书】:

1.一种稳定六方氮化硼(h-BN)高比表面积的方法,其特征在于包括如下步骤:将金属源和h-BN加入到溶剂中进行溶解处理,然后挥发去除溶剂,将所得固体干燥后进行高温处理,随后通入空气即可制得所述在苛刻条件下维持高比表面积的h-BN催化剂。

2.根据权利要求1所述的稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述金属源由乙酸镍、硝酸镍、硫酸镍、氯化镍、乙酸钴、硝酸钴、硫酸钴、氯化钴、乙酸锌、硝酸锌、硫酸锌、氯化锌、乙酸镁、硝酸镁、硫酸镁或氯化镁中的一种或几种混合而成;所述溶剂选自乙醇、丙酮或己烷中的一种。

3.根据权利要求1所述的稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述溶解处理的条件为室温下搅拌0.5~3h;所述挥发去除溶剂的温度为45~100℃;所述干燥条件为在35~85℃真空干燥。

4.根据权利要求1所述的稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述高温处理条件为在300~800℃处理2~6h。

5.根据权利要求1所述稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述通入空气时间为在0.1~2h,空气流速为30mL/min。

6.权利要求1~5任一项所述的方法制备得到稳定的高比表面积h-BN,其特征在于,所述h-BN中金属的负载量按重量比为5%~30%,比表面积为500~1000m2/g。

7.根据权利要求1~5任一项所述的方法制备得的稳定的高比表面积h-BN或根据权利要求6所述的稳定的高比表面积的h-BN在丙烷氧化脱氢制烯烃中的应用。

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