[发明专利]一种稳定六方氮化硼(h-BN)高比表面积的方法及其应用在审
申请号: | 202011153965.6 | 申请日: | 2020-10-26 |
公开(公告)号: | CN112403502A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 林敬东;关健;许明亮;田金树;钱姝雅;张朝霞 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | B01J27/24 | 分类号: | B01J27/24;B01J35/10;B01J37/08;C07C5/48;C07C11/06 |
代理公司: | 北京彭丽芳知识产权代理有限公司 11407 | 代理人: | 彭丽芳 |
地址: | 361005 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 稳定 氮化 bn 表面积 方法 及其 应用 | ||
1.一种稳定六方氮化硼(h-BN)高比表面积的方法,其特征在于包括如下步骤:将金属源和h-BN加入到溶剂中进行溶解处理,然后挥发去除溶剂,将所得固体干燥后进行高温处理,随后通入空气即可制得所述在苛刻条件下维持高比表面积的h-BN催化剂。
2.根据权利要求1所述的稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述金属源由乙酸镍、硝酸镍、硫酸镍、氯化镍、乙酸钴、硝酸钴、硫酸钴、氯化钴、乙酸锌、硝酸锌、硫酸锌、氯化锌、乙酸镁、硝酸镁、硫酸镁或氯化镁中的一种或几种混合而成;所述溶剂选自乙醇、丙酮或己烷中的一种。
3.根据权利要求1所述的稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述溶解处理的条件为室温下搅拌0.5~3h;所述挥发去除溶剂的温度为45~100℃;所述干燥条件为在35~85℃真空干燥。
4.根据权利要求1所述的稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述高温处理条件为在300~800℃处理2~6h。
5.根据权利要求1所述稳定h-BN高比表面积的方法,其特征在于:所述通入空气时间为在0.1~2h,空气流速为30mL/min。
6.权利要求1~5任一项所述的方法制备得到稳定的高比表面积h-BN,其特征在于,所述h-BN中金属的负载量按重量比为5%~30%,比表面积为500~1000m2/g。
7.根据权利要求1~5任一项所述的方法制备得的稳定的高比表面积h-BN或根据权利要求6所述的稳定的高比表面积的h-BN在丙烷氧化脱氢制烯烃中的应用。
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