[发明专利]一种适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法有效
申请号: | 202011159493.5 | 申请日: | 2020-10-26 |
公开(公告)号: | CN112323011B | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 林冰涛;马鸣龙;张奎;李永军;李兴刚;石国梁;袁家伟;陈泽华;范佳宾 | 申请(专利权)人: | 有研工程技术研究院有限公司 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C23C4/073;C23C4/11;C23C4/02 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘徐红 |
地址: | 101407 北京市怀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 vw75 稀土 镁合金 等离子 喷涂 工艺 方法 | ||
1.一种适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,包括如下步骤:
(1)先采用丙酮清洗VW75稀土镁合金基体表面,以去除油污,然后对样品表面施加压应力,使晶格发生1~10%的畸变,并采用喷砂机对基体表面进行吹砂预处理,喷砂角度为60~80°;
(2)喷砂后用干燥的压缩空气吹去附着在粗化表面的砂砾或灰尘,防止喷砂后的粗糙表面氧化和污染,从各个角度观察喷砂面均无反射亮斑;
(3)在喷砂后1~3h内,在粗化后的基体表面喷涂粘接层,粘接层的材料为NiCrAlY合金粉末,按质量百分比计,Cr含量为15~25%,Al含量为3~8%,Y含量为0.2~0.5%,Co、Fe及Si总量小于1%,其余为Ni;粉末粒度分布d(0.5)为70~80μm;
(4)在粘接层上喷涂面层,面层采用大气等离子喷涂工艺制备,面层材料为纳米颗粒团聚氧化钇部分稳定氧化锆粉末;所述的纳米颗粒团聚氧化钇部分稳定氧化锆粉末中,按质量百分比计,Y2O3为6.0~7.34%,HfO为0.5~2.5%,其余为ZrO2,粉末粒度分布d(0.5)为50~60μm;
(5)喷涂后将试样缓慢冷却至室温,以减少内应力。
2.根据权利要求1所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:所述的VW75稀土镁合金的质量百分比组成为:Mg-7Gd-5Y-1Nd-0.6Zr。
3.根据权利要求1所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:所述的吹砂预处理,采用的砂砾为白刚玉砂,砂砾型号为24型。
4.根据权利要求3所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:所述的吹砂预处理中,喷射气压为0.3~0.8MPa,喷砂距离为50~70mm。
5.根据权利要求1所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:喷涂粘接层时,喷涂功率为25~35KW,主气流量为40~80SCFH,辅助气流量为35~55SCFH。
6.根据权利要求1所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:喷涂面层时,喷涂电流为750~900A,喷涂距离为75~95mm,主气流量70~90SCFH,辅气流量35~55SCFH,喷涂速度300~500mm/s,送粉量20~40g/min。
7.根据权利要求1所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:喷涂后试样空冷至室温。
8.根据权利要求1所述的适用于VW75稀土镁合金的等离子喷涂工艺方法,其特征在于:所述的吹砂预处理形成的粗化表面层厚度为0.3-0.6mm;所述的粘接层喷涂时间10秒~30分钟;所述的面层的厚度0.2~0.6mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
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