[发明专利]铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚及使用方法

权利要求书

1.一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：

包括:

底板(1)，所述底板(1)包括一上侧面；

两个第一竖板(4)，两个所述第一竖板(4)设于所述上侧面的两个相对侧边上；

两个第二竖板(6)，两个所述第二竖板(6)设于所述上侧面的另外两个相对侧边上；

若干个冷却构件，设于所述第一竖板(4)与所述底板(1)之间的直角外部、设于所述第二竖板(6)与所述底板(1)之间的直角外部、设于所述第一竖板(4)与所述第二竖板(6)之间的直角外部。

2.根据权利要求1所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述底板(1)的所述上侧面四周开设有下沉式四周槽(2)。

3.根据权利要求2所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述四周槽(2)包括两个第一直槽(201)，两个所述第一直槽(201)设于所述上侧面的两个相对侧边上，两个所述第一竖板(4)设于两个所述第一直槽(201)内；所述四周槽(2)还包括两个第二直槽(202)，两个所述第二直槽(202)设于所述上侧面的另外两个相对侧边上，且与两个所述第一直槽(201)相互连通设置，两个所述第二竖板(6)设于设于两个所述第二直槽(202)内。

4.根据权利要求3所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述第一直槽(201)与所述第二直槽(202)的连接处位于所述第二直槽(202)的两个端点之间且靠近其中一个端点，使得所述第一竖板(4)位于两个所述第二竖板(6)之间。

5.根据权利要求4所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述底板(1)的侧面开设有吊具孔(3)。

6.根据权利要求4所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述第二竖板(6)内侧面的两端均开设有竖直方向的竖槽(7)，所述竖槽(7)的下端与所述第一直槽(201)相对接，所述第一竖板(4)伸进所述竖槽(7)内。

7.根据权利要求6所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述第一竖板(4)的两个端面开有第一固定孔(5)，所述第二竖板(6)上开有第二固定孔(8)，所述第一竖板(4)通过所述第一固定孔(5)、所述第二固定孔(8)与固定件(9)固定连接所述第二竖板(6)。

8.根据权利要求6所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述冷却构件包括4个竖向冷却板(10)和4个横向冷却板(11)；所述竖向冷却板(10)的一竖侧面与所述第二竖板(6)竖向端面接触，该侧面同时通过第一垫块(14)与所述第一竖板(4)接触；所述横向冷却板(11)的一横侧面与所述底板(1)横向端面接触或者与所述第二竖板(6)横向端面接触，同时通过第二垫块(15)与所述第二竖板(6)接触。

9.根据权利要求7所述的一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚，其特征在于：所述竖向冷却板(10)和所述横向冷却板(11)上均开有冷源进口(12)和冷源出口(13)。

10.一种铸锭单晶硅或多晶硅中可重复利用的石墨坩埚的使用方法，其特征在于：所述石墨坩埚采用如权利要求1-9任一项所述的石墨坩埚，所述方法包括，(1)将两个所述第一竖板(4)放置在第一直槽(201)内，两个所述第二竖板(6)放置在第二直槽(202)内，利用固定件(9)将相邻的所述第一竖板(4)和所述第二竖板(6)固定，将冷却构件分别固定在所述石墨坩埚的底部四周和四个竖向拐角处；(2)对整个所述石墨坩埚进行氮化硅涂层处理；(3)装入铸锭多晶硅的硅料，或者，在所述石墨坩埚底部铺满籽晶，然后在籽晶上面装入铸锭单晶硅的硅料；(4)放入铸锭炉内；(5)向冷却构件内充入惰性气体或者液体冷源；(6)铸锭工艺完成后开炉，将各个零部件拆开，将多晶硅锭或者单晶硅锭取出。