[发明专利]载置台和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置用的载置台，其特征在于，包括：

供电部，其提供传输来自高频电源的高频的传输路径；和

具有基座和吸盘主体的静电吸盘，其中，所述基座具有导电性，设置在所述供电部上，与所述供电部电连接，所述吸盘主体设置在所述基座上，利用静电引力保持基片，

所述吸盘主体包括：

设置在该吸盘主体内的多个第1加热器，该多个第1加热器在与该吸盘主体的中心轴线正交的该吸盘主体内的面上分布；和

设置在该吸盘主体内的多个第2加热器，该多个第2加热器的个数比所述多个第1加热器的个数多，所述多个第2加热器在与所述中心轴线正交的该吸盘主体内的另一面上分布，

所述载置台还包括：

利用来自第1电源的交流或直流的输出，对所述多个第1加热器进行驱动的第1加热器控制器；和

利用来自第2电源的交流或直流的输出，对所述多个第2加热器进行驱动的第2加热器控制器。

2.如权利要求1所述的载置台，其特征在于：

所述第1加热器控制器利用来自所述第1电源的交流输出，对所述多个第1加热器进行交流驱动，

所述第2加热器控制器利用来自所述第2电源的直流输出，对所述多个第2加热器分别进行直流驱动。

3.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：

所述多个第2加热器，分别设置在与所述中心轴线交叉的中心区和在包围该中心区并且与该中心轴线同轴的多个领域内在周向排列的多个区。

4.如权利要求3所述的载置台，其特征在于：

所述多个第1加热器与所述中心轴线同轴地设置。

5.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：

所述吸盘主体包括：作为所述基座一侧的表面的背面；和作为与该背面相反一侧的表面的上表面，

所述多个第2加热器设置在所述多个第1加热器与该上表面之间。

6.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于：

来自所述第2电源的交流或者直流的输出，具有比来自所述第1电源的所述输出的功率低的功率。

7.如权利要求1或2所述的载置台，其特征在于，还包括：

与所述多个第1加热器分别电连接的多个第1供电线；和

与所述多个第2加热器分别电连接的多个第2供电线，

所述第1加热器控制器分配来自所述第1电源的所述输出而生成多个第1输出，将具有被分别调节后的功率量的该多个第1输出经所述多个第1供电线供给至所述多个第1加热器的各个第1加热器，

所述第2加热器控制器分配来自所述第2电源的所述输出而生成多个第2输出，将具有被分别调节后的功率量的该多个第2输出经所述多个第2供电线供给至所述多个第2加热器的各个第2加热器，

所述供电部划分形成由所述传输路径包围的收纳空间，

所述多个第1供电线、所述第1加热器控制器、所述多个第2供电线和所述第2加热器控制器设置在所述收纳空间内。

8.如权利要求7所述的载置台，其特征在于：

所述多个第1输出的功率实质上相同并且为一定，所述第1加热器控制器对多个第1占空比进行控制，该多个第1占空比是该多个第1输出分别被供给至所述多个第1加热器的供给时间长度相对于规定时间长度的比率，

所述多个第2输出的功率实质上相同并且为一定，所述第2加热器控制器对多个第2占空比进行控制，该多个第2占空比是该多个第2输出分别被供给至所述多个第2加热器的供给时间长度相对于规定时间长度的比率。