[发明专利]一种双面显示面板及其制备方法在审
申请号: | 202011163454.2 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN112310299A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 周万亮 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 何辉 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 双面 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种双面显示面板,其特征在于,包括:
基板;
有机发光二极管层,设置于所述基板上,所述有机发光二极管层包括多个顶发光单元和多个底发光单元,多个所述顶发光单元和多个所述底发光单元沿至少一个方向交替排列在所述基板的一个表面上;
所述顶发光单元包括在所述基板上由下至上依次层叠的阳极、有机层和阴极;
所述有机层包括依次层叠设置的空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子传输层,所述空穴注入层的厚度为10纳米至110纳米;
所述阳极包括反射电极和透射电极,所述透射电极位于所述反射电极远离所述基板的一侧;
所述反射电极和所述阴极之间形成微腔,所述微腔的腔长为225纳米至1050纳米。
2.如权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述空穴注入层的厚度为10纳米至55纳米。
3.如权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述透射电极的厚度大于或等于60纳米,所述透射电极包括层叠设置的至少两层透明材料层,每层所述透明材料层的厚度小于60纳米。
4.如权利要求3所述的双面显示面板,其特征在于,所述透射电极的厚度为60纳米至120纳米。
5.如权利要求3所述的双面显示面板,其特征在于,每层所述透明材料层的厚度为30纳米至60纳米。
6.如权利要求3所述的双面显示面板,其特征在于,所述透明材料层的层叠层数为2层或3层。
7.如权利要求1所述的双面显示面板,其特征在于,所述透明材料层的材料为透明导电氧化物。
8.一种双面显示面板的制备方法,其包括以下步骤:
提供一基板,在所述基板上制备有机发光二极管层,所述有机发光二极管层包括多个顶发光单元和多个底发光单元,多个所述顶发光单元和多个所述底发光单元沿至少一个方向交替排列在所述基板的一个表面上;
其中,制备所述顶发光单元的步骤包括:
在所述基板上形成反射电极;
在所述反射电极上形成透射电极;所述反射电极与所述透射电极共同构成阳极;
在所述阳极上依次层叠设置空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子传输层,形成有机层;其中,所述空穴注入层的厚度为10纳米至110纳米;
在所述有机层上形成阴极,其中,所述反射电极和所述阴极之间形成微腔,所述微腔的腔长设置为225纳米至1050纳米。
9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,在所述反射电极上形成透射电极的步骤包括:在所述反射电极上设置一层透明材料层,刻蚀所述透明材料层,然后在刻蚀后的透明材料层上层叠和刻蚀另一层透明材料层,依次形成包括多层透明材料层的透射电极。
10.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述透射电极的厚度大于或等于60纳米,所述透射电极包括层叠设置的至少两层透明材料层,每层所述透明材料层的厚度小于60纳米。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择