[发明专利]一种用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面在审

专利信息
申请号: 202011163753.6 申请日: 2020-10-27
公开(公告)号: CN112276788A 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 刘时坤 申请(专利权)人: 湖南元宏特种陶瓷有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/22;B24B37/24;B24B37/26
代理公司: 湖南唯君律师事务所 43261 代理人: 姚艳
地址: 417607 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 陶瓷材料 表面 研磨 抛光 盘盘
【权利要求书】:

1.一种用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,包括磨盘体,其特征在于,所述磨盘体的表面成型有缓冲垫层,并在所述缓冲垫层上成型有研磨结构,所述研磨结构包括衬块以及贴合于衬块表面的抛光垫;

所述衬块包括层叠设置的三层橡胶衬垫,三层橡胶衬垫的单层厚度为0.8~10mm,且三层橡胶衬垫中的上层橡胶衬垫的厚度大于中间层橡胶衬垫的厚度,中间层橡胶衬垫的厚度大于下层橡胶衬垫的厚度,并在上层橡胶衬垫与中间层橡胶衬垫之间、中间层橡胶衬垫与下层橡胶衬垫之间以及下层橡胶衬垫的下表面上均成型有聚醚醚酮衬材;

所述抛光垫为多层复合结构,包括自上而下设置的丁腈橡胶层、内层毛毡层以及成型于内层毛毡层表面的绒面毯。

2.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述磨盘体上部连接升降支架,并通过升降支架实现磨盘体的上下移动。

3.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述缓冲垫层与所述磨盘体之前还设置有调整支架,所述调整支架包括面板以及底板,所述面板与所述研磨结构固连,所述底板与所述磨盘体固连,面板与底板之间设置有间隙空间,并在该间隙空间内通过若干独立的弹性连接件进行连接固定。

4.根据权利要求3所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述弹性连接件为高密度橡胶垫块或者弹簧。

5.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述缓冲垫层为一整块一体成型的聚氨酯海绵垫,所述聚氨酯海绵垫的截面形状与所述磨盘体的盘面形状一致,固定于磨盘体的下表面上。

6.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,三层橡胶衬垫均采用硫化烷基橡胶层成型制成。

7.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述上层橡胶衬垫的厚度为5~6mm、中间层橡胶衬垫的厚度为3~4mm,而下层橡胶衬垫的厚度为1~2mm;而所述聚醚醚酮衬材的厚度为3mm。

8.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述丁腈橡胶层的厚度为3~6mm。

9.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述绒面毯的起绒部分的绒头长度为3~5mm,且整个绒面毯在外缘对整个抛光盘进行外侧包边并固定。

10.根据权利要求1所述的用于陶瓷材料表面的研磨抛光盘盘面,其特征在于,所述绒面毯为尼龙毯、丙纶毯以及涤纶毯中的一种。

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