[发明专利]基于物理原理的环境光反射模拟方法、设备和存储介质在审
| 申请号： | 202011165334.6 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN112381915A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 蒋冠冕 | 申请（专利权）人： | 杭州电魂网络科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06T15/00 | 分类号： | G06T15/00;G06T15/04;G06T15/50 |
| 代理公司： | 杭州创智卓英知识产权代理事务所(普通合伙) 33324 | 代理人： | 张超 |
| 地址： | 310051 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 物理 原理 环境 反射 模拟 方法 设备 存储 介质 | ||
1.一种基于物理原理的环境光反射模拟方法，其特征在于，包括：
通过基于物理原理的渲染方法，预生成2D环境贴图，所述2D环境贴图包含被渲染物体的材质信息；
根据所述被渲染物体的表面粗糙度的环境光反射信息，对所述2D环境贴图进行预处理，得到预处理后的2D环境贴图；
对所述预处理后的2D环境贴图进行采样，并基于采样的数据，表达所述被渲染物体的环境光反射效果。
2.根据权利要求1所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法，其特征在于，所述的通过基于物理原理的渲染方法，预生成2D环境贴图包括：
根据PBR渲染方法中的全局光照算法，预生成2D环境贴图。
3.根据权利要求2所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法，其特征在于，所述的根据PBR渲染方法中的全局光照算法，预生成2D环境贴图包括：
在以当前视角的场景作为预渲染条件下，或者在以美术偏向的风格作为预渲染条件下，根据PBR渲染方法中的全局光照算法，预生成2D环境贴图。
4.根据权利要求1所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法，其特征在于，所述被渲染物体在所述2D环境贴图中的表面粗糙度默认为0，所述的根据所述被渲染物体的表面粗糙度的环境光反射信息，对所述2D环境贴图进行预处理，得到预处理后的2D环境贴图包括：
基于物理原理，设定所述被渲染物体的表面粗糙度范围为0～1，并通过Mipmaps保存不同表面粗糙度对应的环境光反射信息；
利用所述Mipmaps对所述2D环境贴图进行预处理，得到预处理后的2D环境贴图。
5.根据权利要求1所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法，其特征在于，所述的对所述预处理后的2D环境贴图进行采样包括：
根据视线方向和所述被渲染物体的法线方向对所述预处理后的2D环境贴图进行采样，同时对于不同的表面粗糙度，采样不同等级的多级纹理偏移量信息。
6.根据权利要求1所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法，其特征在于，所述的对所述预处理后的2D环境贴图进行采样包括：
基于蒙特卡洛的分布统计算法对所述预处理后的2D环境贴图进行离线采样。
7.一种电子设备，包括处理器和存储有计算机程序的存储介质，其特征在于，所述计算机程序被所述处理器执行时实现如权利要求1至6中任一项所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法。
8.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至6中任一项所述的基于物理原理的环境光反射模拟方法。
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