[发明专利]研磨抛光装置

权利要求书

1.一种研磨抛光装置，用于夹持一预制品并对所述预制品进行研磨抛光处理，其特征在于，包括：

基座，包括支撑台以及支撑柱，所述支撑台与所述支撑柱连接；

磨盘，固定于所述支撑台上，所述磨盘具有一打磨面，

样品盘，固定于所述支撑柱上，所述样品盘包括：

底座，包括一固定面，所述固定面朝向所述打磨面并与所述固定面平行设置；

两个支架，可活动地设置于所述底座上；

紧固件，将所述支架固定于所述底座上；

至少两个夹具，可旋转地固定于所述支架上并夹持所述预制品；以及

定位旋钮，将所述夹具固定于所述支架上；

第一控制台，电连接所述样品盘，用于控制所述样品盘固定的所述预制品与所述打磨面之间的距离；以及

第二控制台，电连接所述磨盘，用于控制所述磨盘的工作状态，以研磨抛光处理所述预制品。

2.根据权利要求1所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述底座具有所述固定面的一侧开设一第一滑槽，定义所述第一滑槽在所述固定面上延伸的方向为第一方向，平行于所述固定面且垂直于所述第一方向的方向为第二方向，垂直于所述第一方向及所述第二方向的方向为第三方向，所述第一滑槽沿所述第三方向的截面与所述固定面相交于第一交点和第二交点，所述第一交点和所述第二交点之间的距离为D1；至少一异于所述固定面且平行于所述固定面的平面与所述第一滑槽沿所述第三方向的截面相交于第三交点和第四交点，所述第三交点和所述第四交点之间的距离为D2，则满足D1＜D2；每一所述支架具有与所述第一滑槽相适配的第一凸起，所述第一凸起容置于所述第一滑槽中。

3.根据权利要求2所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述第一滑槽沿所述第三方向的截面为梯形或椭圆形。

4.根据权利要求2所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述支架具有第一表面以及与所述第一表面相背的第二表面，所述支架具有贯穿所述第一表面以及所述第二表面的第二滑槽，所述第二滑槽沿所述第二方向延伸，所述第二滑槽沿所述第三方向的截面与所述第一表面相交于第五交点和第六交点，所述第五交点和所述第六交点之间的距离为D3；至少一异于所述第一表面且平行于所述第一表面的平面与所述第二滑槽沿所述第三方向的截面相交于第七交点和第八交点，所述第七交点和所述第八交点之间的距离为D4；则满足D3＜D4；所述夹具具有与所述第二滑槽相适配的第二凸起，所述第二凸起容置于所述第二滑槽中。

5.根据权利要求4所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述支架还包括在所述第二表面沿所述滑槽的侧壁向内凹陷的凹陷部。

6.根据权利要求5所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述第二滑槽沿所述第三方向的截面呈阶梯状。

7.根据权利要求4所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述第二滑槽沿所述第三方向的截面呈梯形或者椭圆形。

8.根据权利要求1所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述支架的表面设置有第一弹性件。

9.根据权利要求1所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述研磨抛光装置还包括一伸缩件，所述伸缩件连接所述样品盘以及所述支撑柱。

10.根据权利要求9所述的研磨抛光装置，其特征在于，所述底座与所述伸缩件之间还设置有第二弹性件。