[发明专利]冷铣刨机减尘系统在审
申请号: | 202011166423.2 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN112746550A | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | C·J·海曼;E·S·恩格尔曼 | 申请(专利权)人: | 卡特彼勒路面机械公司 |
主分类号: | E01C23/088 | 分类号: | E01C23/088;B01D47/06 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 苏娟;朱利晓 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 冷铣刨机减尘 系统 | ||
本发明是一种用于冷铣刨机的减尘系统。该减尘系统可以包括以下部件:切割滚筒;输送机系统,靠近切割滚筒并适于从切割滚筒收集切割的铺路材料并且将切割的铺路材料输送至输送机系统出口;风扇,靠近输送机系统并且将灰尘从切割滚筒引导到输送机系统;导管,具有位于切割室内的第一端和靠近风扇的第二端;水源;以及输送机喷嘴,位于风扇与输送机系统出口之间并适于将水从水源传送到输送机系统上,从而使从风扇引导到输送机系统的灰尘被吹过水。
技术领域
本发明总体上涉及铣床,并且更具体地涉及冷铣刨机。
背景技术
为了修复和重铺表面,例如在道路上和在停车场,必须经常去除先前的表面。这通常通过使用称为冷铣刨机的重型铣床来实现。冷铣刨机用旋转切割滚筒切割铺路材料的顶层,该旋转切割滚筒具有围绕切割滚筒的圆周布置的多个径向延伸的切割齿。该切割滚筒抵靠先前的路面旋转并且切割齿切入并且撕裂铺砌的表面。滚筒的旋转还将切割的铺路材料沉积到输送机系统上,该输送机系统进而将切割的铺路材料输送至卡车或类似的拖运车辆以便处理。
在上述铣削过程中,空气中的灰尘是由切割滚筒强有力地产生和抛撒的大片和小片的切割材料产生的。这表示操作员附近空气质量下降的潜在问题。许多冷铣刨机具有某种形式的减尘功能,例如通风系统,可产生真空以将灰尘从切割滚筒和操作员身上吸走。这些通风系统中的许多会排入输送机系统,然而,当灰尘添加到输送机系统中时,通常会残留空气中的灰尘。在输送机出口,根据天气条件,这些空气传播的灰尘可被吹回操作员。
现有技术未能充分解决这个问题。授予Hirman等人的美国专利申请第2017/350080A1号公开了一种冷铣刨机通风系统,其利用沉降箱和风扇将灰尘从切割滚筒抽出并将灰尘排放到输送机系统中。然而,仍可能有进一步的改进。
发明内容
根据本发明的一个方面,公开了一种用于冷铣刨机的减尘系统。该减尘系统可以包括以下部件:切割滚筒;输送机系统,靠近切割滚筒并适于从切割滚筒收集切割的铺路材料并且将切割的铺路材料输送至输送机系统出口;风扇,靠近输送机系统并且将来自切割滚筒的灰尘引导至输送机系统;导管,具有位于切割室中的第一端和靠近风扇的第二端;水源;以及输送机喷嘴,位于风扇和输送机系统出口之间并适于将水从水源传送到输送机系统,从而使从风扇引导到输送机系统的灰尘被吹过水。
根据本发明的另一方面,公开了一种冷铣刨机。该冷铣刨机可以包括以下部件:机架;发动机;牵引装置;驾驶室;切割滚筒;输送机系统,靠近切割滚筒并适于从切割滚筒收集切割的铺路材料并且将切割的铺路材料输送至输送机系统出口;风扇,靠近输送机系统并且将灰尘从切割滚筒引导至输送机系统;导管,具有位于切割室中的第一端和靠近风扇的第二端;水源;以及输送机喷嘴,位于风扇和输送机系统出口之间并适于将水从水源传送到输送机系统,从而使从风扇引导到输送机系统的灰尘被吹过水
根据本发明的又一方面,公开了一种用于减轻灰尘的方法。该方法可以包括:在用冷铣刨机的切割系统切割铺路材料时产生粉尘;用导管收集灰尘;使用风扇通过导管输送灰尘;将灰尘从导管排放到输送机系统上;用来自喷嘴的水喷雾将灰尘喷洒在输送机系统上。
在结合附图阅读以下详细描述之后,将更容易理解本发明的这些和其他方面和特征。
附图说明
图1是根据本发明的实施方式的冷铣刨机的透视图。
图2是根据本发明的实施方式的冷铣刨机和拖运车辆103的示意图。
图3是图2的截面的放大视图,示出了根据本发明的通风和水系统。
图4是描述根据本发明的在冷铣刨机中减少灰尘的方法的步骤的示例性顺序的流程图。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡特彼勒路面机械公司,未经卡特彼勒路面机械公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011166423.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:汽车座椅电动滑动装置的中空型无刷直流马达
- 下一篇:层叠体及光扩散控制膜