[发明专利]太阳能单晶高效PERC+SE电池片的低压扩散工艺有效
申请号: | 202011166593.0 | 申请日: | 2020-10-27 |
公开(公告)号: | CN112466984B | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
发明(设计)人: | 刘杰;张泽泽;申争浩;刘栩瑞;刘照敏 | 申请(专利权)人: | 山西潞安太阳能科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/225;H01L31/068 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 李富元 |
地址: | 046000 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能 高效 perc se 电池 低压 扩散 工艺 | ||
本发明涉及太阳能电池生产扩散领域。一种太阳能单晶高效PERC+SE电池片的低压扩散工艺,包括如下步骤,扩散前高温氧化,分步扩散法制备PN结,后氧化,其中分步扩散法制备PN结包括第一步低压扩散,保温缓冲,第二步低压扩散,第一步升温推进,第二步升温推进;本发明能制得高表面浓度和低的结深,电性能参数表现为较低开路电压和填充,短路电流较高,使得组件封装之后短波效应较差,从而表现出低的CTM(组件输出功率与电池片功率总和的百分比),本发明的电池效率得到较大的提高。
技术领域
本发明涉及太阳能电池生产扩散领域。
背景技术
随着全球气候变暖,各种可再生能源迅速发展。其中光伏作为重要的可再生能源,近十五年飞速的发展,各类电池百花齐放,其中单晶高效PERC+SE电池已经初步具备平价上网,对全球新能源发展做出重要贡献。
生产太阳能电池的核心步骤是制备PN结,扩散制PN结法是采用加热方法使V族杂质掺入P型硅或Ⅲ族杂质掺入N型硅中。杂质元素在高温时由于热扩散运动进入硅基体,它在基体中的分布视杂质元素种类、初始浓度、扩散温度和时间而导致,这种不同的组合会有不同电池结构,对电池片电性能的表现差异很大。目前硅太阳电池中最常用的V族杂质元素为磷,III族杂质元素为硼。
目前高效PERC+SE电池片低压扩散工艺大多数是采用浅结高方阻,表现出较高表面浓度和低的结深,较低的结深必然会导致欧姆接触较差,纵向传输过程电阻较大,也会使电池段的短波响应较好,短路电流较高。但是组件封装之后短波段的光被玻璃阻挡在外了,导致短波段效应较差,从而表现出低的CTM(组件输出功率与电池片功率总和的百分比)。因此,本发明既可以提高电池片的开路电压和填充因子,又可以使组件端有较高的CTM。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:如何进一步改进PERC+SE电池片低压扩散工艺扩散工艺,从而提高电池效率。
本发明所采用的技术方案是:一种太阳能单晶高效PERC+SE电池片的低压扩散工艺,包括如下步骤
步骤一、扩散前高温氧化,工艺条件为:温度650℃~800℃,氮气流量500sccm~2000sccm,氧气流量为500sccm~1000sccm,压强为50mbar~150mbar,持续时间100s~200s;
步骤二、分步扩散法制备PN结
第一步低压扩散,工艺条件为:压强为50mbar~150mbar,扩散温度为750℃~ 780℃,扩散时间为100s~300s,氮气流量为1000sccm~2000 sccm,三氯氧磷流量为 600sccm~1000sccm,氧气流量为300sccm~1000sccm;
保温缓冲,工艺条件为:压强为50mbar~150mbar,扩散温度为750℃~ 780℃,氮气流量为1000sccm~2000 sccm,氧气流量为300sccm~1000sccm,停止通入三氯氧磷,持续时间50 s~70s;
第二步低压扩散,工艺条件为:压强为50mbar~150mbar,扩散温度为780℃~ 800℃,扩散时间为100s~300s,氮气流量为1000sccm~2000 sccm,三氯氧磷流量为 500sccm~1000sccm;氧气流量为300sccm~1000sccm;
第一步升温推进,工艺条件为:压强为50mbar~150mbar,推进温度为800℃~ 900℃;推进时间为300s~500s,氮气流量为1000sccm~2000 sccm;
第二步升温推进,工艺条件为:压强为50mbar~150mbar,推进温度为800℃~ 900℃;推进时间为500s~2000s,氮气流量为1000sccm~2000 sccm,氧气流量为0~500sccm;
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