[发明专利]一种钡铁氧体陶瓷材料及其制备方法有效
| 申请号： | 202011179690.3 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112374878B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 谭国龙 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C04B35/26 | 分类号： | C04B35/26;C04B35/64;H01F1/11;H01F41/02 |
| 代理公司： | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人： | 柏琳容 |
| 地址： | 430070 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 铁氧体 陶瓷材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种钡铁氧体陶瓷材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
1）按照钡与铁的摩尔比1:8-10将钡前驱体溶液和铁前驱体溶液混合，之后加入沉淀剂得到沉淀物；所述钡前驱体溶液由钡盐在120-130℃下溶于甘油制得；所述铁前驱体溶液由铁盐在70-80℃下溶于酒精与丙酮的混合液制得；
2）将步骤1）得到的所述沉淀物在400-450℃下煅烧，之后冷却；所述沉淀物在400-450℃下进行所述煅烧，之后冷却的具体步骤包括：所述沉淀物以5-10℃/min的升温速度升至400-450℃并保温1-1.5h，再以5-10℃/min的降温速度降至200-250℃，之后冷却至40℃以下；
3）将步骤2）冷却后的所述沉淀物在800-850℃下煅烧；所述沉淀物在800-850℃下进行所述煅烧的具体步骤包括：将研磨后的所述沉淀物以15-20℃/min的升温速度升至800-850℃并保温1-1.5h，再以15-20℃/min的降温速度降至200-250℃，之后冷却至40℃以下；
4）将步骤3）处理后的所述沉淀物研磨，将研磨后的所述沉淀物在1250-1300℃及氧气气氛下煅烧；将研磨后的所述沉淀物在1250-1300℃及氧气气氛下进行所述煅烧具体包括：在氧气气氛下所述沉淀物以10-15℃/min的升温速度升至1250-1300℃并保温2-2.5h，之后以5-10℃/min的降温速度降至200-300℃，之后冷却至40℃以下；
5）将步骤4）处理后的所述沉淀物在氧气气氛及700-820℃下退火处理得到所述钡铁氧体陶瓷材料；在700-820℃下进行所述退火处理进一步包括：在氧气气氛下所述沉淀物按照10-15℃/min的升温速度升至700-820℃并保温1-4h，再以10-15℃/min的降温速度降至250-300℃，之后冷却至40℃以下。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤1）中，之后在70-80℃下加入所述沉淀剂得到所述沉淀物。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤1）中，所述沉淀剂为氨水。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤4）中，将所述沉淀物研磨至纳米级别。
5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法制备得到的钡铁氧体陶瓷材料。
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