[发明专利]监视系统在审
申请号: | 202011180793.1 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112786434A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 金子翔太;大野繁实;相良典秀 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H04N7/18 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;刘芃茜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 监视 系统 | ||
1.一种监视系统,其特征在于:
所述监视系统是监视用壳体将基片处理装置密闭、将所述密闭的空间用规定的气体气氛充满的密闭装置的监视系统,其包括:
将所述壳体与所述基片处理装置之间的空间中的、人能够进入的区域作为检测区域的激光传感器;和
控制装置,其基于所述激光传感器的检测结果对所述基片处理装置或所述密闭装置输出控制信号,或者输出基于所述检测结果的通知信号。
2.如权利要求1所述的监视系统,其特征在于:
所述密闭装置具有用于将所述密闭的空间用所述规定的气体气氛充满的、供给规定的气体的供给部,
所述控制装置在由所述激光传感器检测到物体时,对所述密闭装置输出不进行用所述供给部供给所述规定的气体的动作的控制信号。
3.如权利要求1或2所述的监视系统,其特征在于:
还包括拍摄所述人能够进入的区域的拍摄装置,
在由所述激光传感器检测到物体的情况下,用所述拍摄装置拍摄至少检测到所述物体的区域。
4.如权利要求3所述的监视系统,其特征在于:
将所述激光传感器的检测结果与所述拍摄到的图像相关联。
5.如权利要求1或2所述的监视系统,其特征在于:
所述密闭装置具有用于出入所述密闭的空间内的可开闭的门和该门的上锁机构,
所述控制装置基于所述激光传感器的检测结果,输出用于切换所述门的上锁机构的动作的信号。
6.如权利要求1或2所述的监视系统,其特征在于:
基于所述激光传感器的检测结果对所述基片处理装置输出的控制信号,是用于将所述基片处理装置联锁的信号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011180793.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造