[发明专利]一种探测器像素内响应变化测量方法及系统在审
申请号: | 202011181240.8 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN112504631A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 袁利;张承钰;王立;郑然;武延鹏;王苗苗 | 申请(专利权)人: | 北京控制工程研究所 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人: | 马全亮 |
地址: | 100080 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 探测器 像素 响应 变化 测量方法 系统 | ||
1.一种探测器像素内响应变化测量方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)搭建探测器像素内响应变化测量系统;
(2)对入射光场图像进行采集;
(3)探测器像素内响应变化图处理。
2.根据权利要求1所述的一种探测器像素内响应变化测量方法,其特征在于:探测器像素内响应变化测量系统包括:白炽灯光源(1)、彩色滤光片(2)、针孔掩模(3)、平行光管(4)、光学平台(5)、显微镜物镜(6)、图像探测器芯片(7)、三轴位移平台(8)、基座(9)、暗室舱(10)和直流电源(11);
光学平台(5)上依次放置白炽灯光源(1)、彩色滤光片(2)、针孔掩模(3)、平行光管(4)、显微镜物镜(6)和三轴位移平台(8),基座(9)安装在三轴位移平台(8)上,图像探测器芯片(7)固定在基座(9)上;显微镜物镜(6)、图像探测器芯片(7)、三轴位移平台(8)和基座(9)均位于暗室舱(10)内部;直流电源(11)用于给白炽灯光源(1)供电。
3.根据权利要求2所述的一种探测器像素内响应变化测量方法,其特征在于:白炽灯光源(1)产生的光源通过彩色滤光片(2)获得固定波长的光波同时滤掉紫外光和其他光学光,经过彩色滤光片(2)的光线通过针孔掩模(3)后进入平行光管(4),光线经过平行光管(4)和显微镜物镜(6),照射在图像探测器芯片(7)表面,并在单个像素及其相邻像素上形成扫描光斑,以测量其在选定像素位置上的待测像素的响应变化情况。
4.根据权利要求2所述的一种探测器像素内响应变化测量方法,其特征在于:所述步骤(2)对入射光场图像进行采集,具体为:
(2.1)打开光源,连接图像探测器与计算机;待光源预热十五分钟稳定后,图像探测器表面产生一个光斑;在测量中选用圆形显微镜物镜,得到的光斑轮廓为艾里斑衍射图像;
(2.2)开始扫描前,控制三轴位移平台,使得光斑定位在待测像素的中心,然后移动到扫描区域的开始位置;调整位移平台与光轴共线的轴,使图像探测器芯片移动到显微镜物镜的焦平面上;
(2.3)对图像探测器芯片以待测像素为中心,对其周围预设像素区域进行扫描;
利用计算机控制三轴位移平台移动,使入射光束在图像探测器芯片上进行扫描并捕获子帧图像,以待测像素为中心的像素区域,构成一幅子帧图像;在每个扫描点位置捕获M幅子帧图像,计算每个扫描点数次扫描结果的平均值;
(2.4)扫描区域中所有扫描帧图像的平均值存储在计算机的数据文件中,存储数据的顺序与执行扫描的顺序相同;读取所有文件,将待测像素的灰度值数据存储在一个新矩阵中,由此获得的待测像素信号作为入射光斑位置的函数,从而提供像素响应图像。
5.根据权利要求4所述的一种探测器像素内响应变化测量方法,其特征在于:光学显微镜物镜分辨率的阿贝极限如下所示
其中,rspot是光斑的半径,定义为从光斑中心到第一个最小艾里斑的距离,λ是入射光波的波长,n是物镜的折射率,α=tan(d/2f)是由物镜直径d和焦距f定义的会聚角,NA是显微镜的数值孔径,即镜口率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京控制工程研究所,未经北京控制工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011181240.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。