[发明专利]真空紫外光内电离质谱分析装置及质谱分析方法在审

专利信息
申请号: 202011181340.0 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112259440A 公开(公告)日: 2021-01-22
发明(设计)人: 蒋公羽;戴梦杰;陈延龙;陈元;姚如娇;沈辉;景加荣;侍尉;刘宇峰 申请(专利权)人: 上海裕达实业有限公司
主分类号: H01J49/42 分类号: H01J49/42;H01J49/04;H01J49/14
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 200245 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 真空 紫外光 电离 谱分析 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,包括:紫外光源、质量分析器、光束调节部件、分析样品以及控制器;

所述紫外光源能够对分析样品进行单光子电离;

所述质量分析器能够在内部进行从分析样品电离到离子质量分离的完整质谱工作时序;

所述质量分析器开有光源引入口;

所述光束调节部件设置于光源引入口的上游;

所述控制器能够同步控制质量分析器的工作时序阶段与所述光束调节部件调制量;

所述紫外光源采用连续型真空紫外光源;

所述控制器同步控制的工作时序阶段包括以下任意一种或者多种:

-样品电离化;

-离子动能调节;

-不同质荷比的离子分离。

2.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,所述质量分析器采用离子阱质量分析器,通过控制离子阱的电极电压来实现对所述离子阱内需要的离子进行富集。

3.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,还包括:离子阱;

所述紫外光源的光照方向与分析样品进入离子阱方向轴线相互重合。

4.根据权利要求3所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,所述离子阱采用圆柱形或者方形大容量离子阱。

5.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,所述质量分析器的离子动能调节电压是周期性方波或脉冲。

6.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,所述质量分析器的离子动能调节电压是周期性方波或脉冲。

7.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,还包括:进样阀门;

所述进样阀门的开通时序与所述光束调节部件的高导通时序同步。

8.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,所述光束调节部件使所述连续型真空紫外光源输出的真空紫外光在至少一部分时间中轰击在电子逸出功低于其真空紫外光子能量的表面、产生逸出光电子并电离真空紫外光内电离质谱分析装置内至少一部分的样品分子及背景气体分子。

9.根据权利要求1所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,还包括:收集电极、离子倍增部件;

所述收集电极能够探测真空度;

所述收集电极能够收集真空紫外光内电离质谱分析装置内至少一部分的样品分子及背景气体分子电离形成的离子所形成的电流信号,用以输入所述控制器,计算真空紫外光内电离质谱分析装置的内部气压是否满足所述离子倍增部件的高电压安全工作阈值范围,并根据阈值判定结果控制开关所述离子倍增部件的工作高电压。

10.一种质谱分析方法,其特征在于,采用权利要求1-9所述的真空紫外光内电离质谱分析装置,其特征在于,包括:

步骤S1:对所述连续型真空紫外光源起辉,保持其输出真空紫外光强度稳定于设定平均输出值附近±1%的范围内;

步骤S2:采用控制器控制所述质量分析器的工作条件,使其进入样品电离化工作阶段,并使引入质量分析器的样品在输出真空紫外光的作用下电离为样品离子,同时仍驻留在所述质量分析器中;

步骤S3:采用控制器控制所述光束调节部件,使进入所述质量分析器的真空紫外光强度下降到述连续型真空紫外光源所设定平均输出值的1%或以下;

步骤S4:采用控制器控制所述质量分析器的工作条件,使其进入离子动能调节阶段,调节驻留在所述质量分析器中样品离子的动能,满足使其后续不同质荷比的离子分离的离子动能及势能分布状态;

步骤S5:采用控制器控制所述质量分析器的工作条件,使其进入不同质荷比的离子分离阶段,使不同质荷比的样品离子电信号按质量数顺序分离,获得质谱图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海裕达实业有限公司,未经上海裕达实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011181340.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top