[发明专利]模型贴地处理方法、装置、存储介质与电子设备在审

专利信息
申请号: 202011181734.6 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112215968A 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 盘琪 申请(专利权)人: 网易(杭州)网络有限公司
主分类号: G06T19/00 分类号: G06T19/00
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 王辉;阚梓瑄
地址: 310052 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 模型 处理 方法 装置 存储 介质 电子设备
【权利要求书】:

1.一种模型贴地处理方法,其特征在于,包括:

获取场景中目标区域的基准点的地形高度值;

根据待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离,对各所述基准点的地形高度值进行加权,得到所述采样点的高度值;

根据所述采样点的高度值,将所述待贴地模型贴至所述目标区域。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离,通过以下方式确定:

获取所述待贴地模型中的采样点与各所述基准点在同一坐标系中的位置坐标;

确定所述采样点的位置坐标与各所述基准点的位置坐标之间距离。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

设置所述待贴地模型的包围盒;

以所述包围盒的尺寸为单位坐标,确定相对坐标系;

所述获取所述待贴地模型中的采样点与各所述基准点在同一坐标系中的位置坐标,包括:

将所述待贴地模型映射至所述包围盒内,确定所述采样点在所述相对坐标系中的位置坐标;

将各所述基准点映射至所述包围盒内,确定各所述基准点在所述相对坐标系中的位置坐标。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,包括:

所述坐标系为平面坐标系。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离,对各所述基准点的地形高度值进行加权,得到所述采样点的高度值,包括:

根据所述采样点与各所述基准点的距离确定各所述基准点相对于所述采样点的权重值;

利用各所述基准点相对于所述采样点的权重值,对各所述基准点的地形高度值进行加权,得到所述采样点的高度值。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据采样点与各所述基准点的距离确定各所述基准点相对于所述采样点的权重值,包括:

根据参考距离与所述采样点到任一基准点的距离,确定所述任一基准点相对于所述采样点的权重值。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据参考距离与所述采样点到任一基准点的距离,确定所述任一基准点相对于所述采样点的权重值,包括:

确定所述采样点到所述任一基准点的距离,以作为第一距离;

根据所述第一距离与缩放系数,确定第二距离;

根据所述参考距离与所述第二距离,确定所述任一基准点相对于所述采样点的权重值。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述缩放系数,通过以下方式确定:

根据所述基准点的数量确定所述缩放系数。

9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一距离与缩放系数,确定第二距离,包括:

将所述第一距离与所述缩放系数之积确定为所述第二距离。

10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,包括:

将所述场景划分为多个子区域,分别以每个子区域作为所述目标区域。

11.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

在所述目标区域中等间距地设置各所述基准点。

12.一种模型贴地处理装置,其特征在于,包括:

基准点高度值获取模块,用于获取场景中目标区域的基准点的地形高度值;

采样点高度值获取模块,用于根据待贴地模型中的采样点与各所述基准点的距离,对各所述基准点的地形高度值进行加权,得到所述采样点的高度值;

贴地模块,用于根据所述采样点的高度值,将所述待贴地模型贴至所述目标区域。

13.一种计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至11任一项所述的方法。

14.一种电子设备,其特征在于,包括:

处理器;以及

存储器,用于存储所述处理器的可执行指令;

其中,所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1至11任一项所述的方法。

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