[发明专利]一种使用超声雾化装置的等离子体射流系统

权利要求书

1.一种使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，包括：

供气控制模块，用于向放电发生模块提供改性混合气体；

放电发生模块，用于将改性混合气体电离为等离子体并喷射到待处理材料(15)上；

所述供气控制模块包括超声雾化装置(7)，所述超声雾化装置(7)能够将液态单体材料雾化为单体气体以便被前驱气体带出，所述单体气体、前驱气体和工作气体混合形成改性混合气体。

2.如权利要求1所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述供气控制模块还包括设置在超声雾化装置(7)下游的凝结装置(12)，所述前驱气体携带单体气体经过凝结装置(12)中转后流入放电发生模块或混气腔(14)。

3.如权利要求1所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述放电发生模块包括等离子体射流管(2)、高压电极(3)和高压电源(4)，所述高压电源(4)电连接高压电极(3)，所述高压电极(3)伸入等离子体射流管(2)中用于电离改性混合气体。

4.如权利要求3所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述放电发生模块还包括一端设置于等离子体射流管(2)上的地电极(1)。

5.如权利要求1所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述供气控制模块包括第一气瓶(51)和第二气瓶(52)，所述第一气瓶(51)连通混气腔(14)，所述第二气瓶(52)依次连通单体储存装置(9)、凝结装置(12)和混气腔(14)。

6.如权利要求5所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述单体储存装置(9)为三孔密闭玻璃瓶和/或所述凝结装置(12)为凝结烧杯。

7.如权利要求6所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述超声雾化装置(7)通过浮标(8)悬浮于单体储存装置(9)中。

8.如权利要求7所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，还包括功率控制器(11)，所述功率控制器(11)电连接于超声雾化装置(7)以控制其输出功率。

9.如权利要求8所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述凝结装置(12)的出口处设置有第三流量计(13)。

10.如权利要求9所述的使用超声雾化装置的等离子体射流系统，其特征在于，所述第一气瓶(51)和第二气瓶(52)的出口处对应设置有第一流量计(61)和第二流量计(62)。