[发明专利]一种用于打卤的系统

权利要求书

1.一种用于打卤的系统，其特征在于，包括：

壳体，被限定有容纳腔，所述容纳腔的顶部设有开口，所述容纳腔的底部设置有轨道；

第一转动装置，设置在所述轨道上，所述第一转动装置被配置为受控在所述轨道上转动；

卤槽，与所述第一转动装置固定连接，所述卤槽被配置为随所述第一转动装置转动；

汤勺，一端与机械臂总成连接，另一端设置有勺头，所述勺头被配置为受控翻转；

所述机械臂总成，被配置为受控带动所述汤勺伸入所述卤槽或移动至预设的放卤位置。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述机械臂总成，包括：

第一机械臂和第二机械臂；

所述第一机械臂，一端设置有第一电磁铁，另一端通过第一轴与所述第二机械臂的一端活动连接，所述第一电磁铁被配置为受控磁吸所述汤勺；

所述第二机械臂被配置为受控带动所述第一机械臂转动。

3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，还包括：

水平旋转部，所述水平旋转部通过第二轴与所述第二机械臂活动连接，所述水平旋转部被配置为受控带动所述第二机械臂转动。

4.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述汤勺包括勺柄；

所述勺柄的一端设置有第二电磁铁，所述第二电磁铁被配置为与所述第一电磁铁磁吸。

5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述勺柄的另一端设置有第二转动装置，所述第二转动装置与所述勺头连接，所述第二转动装置被配置为受控带动所述勺头翻转。

6.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述汤勺还包括：

挂件，设置在所述勺柄上，所述汤勺通过所述挂件挂靠在所述卤槽的槽体上。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一转动装置包括：

旋转壳，与所述卤槽固定连接，所述旋转壳设置有滑槽，所述旋转壳通过所述滑槽在所述轨道上转动，所述旋转壳内壁上设置有环形齿条；

轮组，与所述环形齿条啮合；

伺服电机，被配置为受控带动所述轮组转动。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述机械臂总成设置在立柱上，所述立柱设置在所述容纳腔内；

所述立柱设置机械臂总成的一端伸出所述容纳腔的开口，或，所述立柱设置机械臂总成的一端与所述容纳腔的开口齐平。

9.根据权利要求1至8任一项所述的系统，其特征在于，还包括：

检测装置，被配置为检测碗托是否放置有物品或是否打卤完成。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述检测装置为压力传感器，所述压力传感器设置在所述碗托上。