[发明专利]抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座有效

专利信息
申请号: 202011184372.6 申请日: 2020-10-28
公开(公告)号: CN112523364B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 潘鹏;王海深;艾华浩 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: E04B1/36 分类号: E04B1/36;E04B1/98;E04H9/02
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 周红
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 双层 摆式 摩擦 摆隔震 支座
【权利要求书】:

1.一种抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座,其特征在于,包括:

上底座,所述上底座的前侧面和后侧面上分别设有第一滑槽,所述第一滑槽的长度方向处在左右方向上;

过渡底座,所述过渡底座设置在所述上底座的下方;所述过渡底座的前侧面和后侧面上分别设有第二滑槽,所述第二滑槽的长度方向处在左右方向上;所述过渡底座的左侧面和右侧面上设有第三滑槽,所述第三滑槽的长度方向处在前后方向上;

下底座,所述下底座设置在所述过渡底座的下方,所述下底座的左侧面和右侧面上设有第四滑槽,所述第四滑槽的长度方向处在前后方向上;

上滑块,所述上滑块设置在所述上底座的底面与所述过渡底座的顶面之间,所述上底座、所述上滑块和所述过渡底座两两之间可在左右方向上发生相对摩擦平移滑动;

下滑块,所述下滑块设置在所述过渡底座的底面与所述下底座的顶面之间,所述过渡底座、所述下滑块和所述下底座两两之间可在前后方向上发生相对摩擦平移滑动;

上抗拔件,所述上抗拔件有两个,两个所述上抗拔件分别设置在所述上底座及所述过渡底座的前侧和后侧,两个所述上抗拔件的上端分别设有第一抗拔凸起,两个所述上抗拔件的下端分别设有第二抗拔凸起,两个所述上抗拔件的所述第一抗拔凸起分别对应适配可滑动地卡装在所述上底座的所述第一滑槽中,两个所述上抗拔件的所述第二抗拔凸起分别对应适配可滑动地卡装在所述过渡底座的所述第二滑槽中;两个所述上抗拔件不会脱落且能与所述上滑块同步同向滑动和转动;

下抗拔件,所述下抗拔件有两个,两个所述下抗拔件分别设置在所述过渡底座及所述下底座的左侧和右侧,两个所述下抗拔件的上端分别设有第三抗拔凸起,两个所述下抗拔件的下端分别设有第四抗拔凸起,两个所述下抗拔件的所述第三抗拔凸起分别对应适配可滑动地卡装在所述过渡底座的所述第三滑槽中,两个所述下抗拔件的所述第四抗拔凸起分别对应适配可滑动地卡装在所述下底座的所述第四滑槽中;两个所述下抗拔件不会脱落且能与所述下滑块同步同向滑动和转动;其中

所述上底座的底面上设有第一摩擦滑轨,所述过渡底座的顶面上设有第二摩擦滑轨,所述第一滑槽和所述第一摩擦滑轨同轴,所述第二滑槽和所述第二摩擦滑轨同轴;

所述过渡底座的底面上设有第三摩擦滑轨,所述下底座的顶面上设有第四摩擦滑轨,所述第三滑槽和所述第三摩擦滑轨同轴,所述第四滑槽和所述第四摩擦滑轨同轴。

2.根据权利要求1所述的抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座,其特征在于,所述第一摩擦滑轨的长度方向和所述第二摩擦滑轨长度方向处在左右方向上;所述上滑块的顶面和底面分别对应地与所述第一摩擦滑轨和所述第二摩擦滑轨滑动配合;

所述第三摩擦滑轨的长度方向和所述第四摩擦滑轨的长度方向处在前后方向上;所述下滑块的顶面和底面分别对应地与所述第三摩擦滑轨和所述第四摩擦滑轨滑动配合。

3.根据权利要求2所述的抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座,其特征在于,所述第一摩擦滑轨和所述第二摩擦滑轨均呈大小相同且彼此相对的弧形,所述第三摩擦滑轨和所述第四摩擦滑轨均呈大小相同且彼此相对的弧形。

4.根据权利要求3所述的抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座,其特征在于,所述第一滑槽和所述第二滑槽均呈大小相同且彼此相对的弧形,所述第三滑槽和所述第四滑槽均呈大小相同且彼此相对的弧形。

5.根据权利要求4所述的抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座,其特征在于,所述第一滑槽的外弧面和内弧面同轴,所述第二滑槽的外弧面和内弧面同轴,所述第三滑槽的外弧面和内弧面同轴,所述第四滑槽的外弧面和内弧面同轴。

6.根据权利要求5所述的抗拔双层双摆式摩擦摆隔震支座,其特征在于,所述第一抗拔凸起与所述第一滑槽间隙配合,所述第二抗拔凸起与所述第二滑槽间隙配合,所述第三抗拔凸起与所述第三滑槽间隙配合,所述第四抗拔凸起与所述第四滑槽间隙配合。

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