[发明专利]蒸镀坩埚及蒸镀装置

权利要求书

1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：

坩埚本体，用于容纳蒸镀材料；

过滤装置，设置在所述坩埚本体内，所述过滤装置包括中心部和围绕所述中心部的周边部；所述坩埚本体包括用于承载所述蒸镀材料的底壁，所述周边部朝远离所述底壁的方向倾斜设置；

所述中心部用于阻挡所述蒸镀材料中的固体杂质，所述周边部贯通开设多个第一通孔，以使所述蒸镀材料汽化后通过所述过滤装置。

2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述中心部贯通开设多个第二通孔，所述第二通孔的开口面积小于所述第一通孔的开口面积。

3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一通孔为圆形孔，所述第一通孔的孔径大于或等于2毫米。

4.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第二通孔为圆形孔，所述第二通孔的孔径小于或等于1毫米。

5.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述中心部的通孔开口率小于所述周边部的通孔开口率。

6.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，在所述中心部，第二通孔的通孔开口率小于15％。

7.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，在所述周边部，第一通孔的通孔开口率大于50％。

8.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第二通孔的通孔开口率和第一通孔的通孔开口率之和大于35％。

9.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述过滤装置在所述底壁上的正投影图形为第一图形，所述中心部在所述底壁上的正投影图形为第二图形，所述第一图形的中心与所述第二图形的中心重合；

所述周边部在所述底壁上的正投影图形为第三图形，所述第三图形为环绕所述第二图形的环形。

10.根据权利要求9所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第二图形的面积与所述第三图形的面积的比值在0.5-1.5之间。

11.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述过滤装置具有第一腔室，所述过滤装置还包括与所述第一腔室围设成封闭空间的盖板，所述盖板上设有多个第三通孔。

12.根据权利要求11所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述盖板包括正对所述中心部的中心区域和正对所述周边部的周边区域，所述周边区域用于阻挡穿过所述第一通孔的固体杂质，所述第三通孔位于所述中心区域。

13.根据权利要求11所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述盖板为中空板，所述中空板包括与所述第一腔室围设成封闭空间的第一壁、与所述第一壁相对设置的第二壁，所述第三通孔设置在所述第一壁上，且所述第三通孔正对所述中心部，所述第一壁未设置所述第三通孔的区域用于阻挡穿过所述第一通孔的固体杂质；

还包括第四通孔，所述第四通孔设置在所述第二壁上，所述第三通孔与所述第四通孔沿预设方向交替设置。

14.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1至13任一项所述的蒸镀坩埚。