[发明专利]缺陷检测方法及装置、电子设备和存储介质有效

专利信息
申请号: 202011191756.0 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112508846B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 牛临潇;李诚 申请(专利权)人: 北京市商汤科技开发有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06V10/40;G06V10/74;G06V10/80;G06V10/82
代理公司: 北京中知恒瑞知识产权代理事务所(普通合伙) 11889 代理人: 吴迪
地址: 100080 北京市海淀区北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 缺陷 检测 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种缺陷检测方法,其特征在于,包括:

获取模板图像的第一特征图、以及待检测图像的第二特征图;

针对所述第一特征图中的每个第一特征点,从所述第一特征图中的多个第一特征点中,确定与该第一特征点之间的距离满足预设条件的多个关联特征点;

针对每个所述第一特征点,基于该第一特征点的所述每个关联特征点与目标第二特征点之间的相似度,以及该第一特征点的多个所述关联特征点分别对应的特征值,对该第一特征点进行特征增强处理;其中,所述目标第二特征点为所述第二特征图中位置与该第一特征点匹配的第二特征点;

基于所述第二特征图、以及特征增强处理后的所述第一特征图,确定所述待检测图像对应的缺陷检测结果;

其中,所述基于该第一特征点的所述每个关联特征点与所述目标第二特征点之间的相似度,以及该第一特征点的多个所述关联特征点分别对应的特征值,对该第一特征点进行特征增强处理,包括:

基于所述每个关联特征点与目标第二特征点之间的相似度,对多个所述关联特征点分别对应的特征值进行加权求和,得到第一和值;

以及,对多个关联特征点分别对应的相似度进行求和,得到第二和值;

将所述第一和值和所述第二和值的比值,作为对该第一特征点进行特征增强处理后的所述第一特征点的特征值。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,采用下述方式确定所述每个关联特征点与所述目标第二特征点之间的相似度:

基于所述每个关联特征点在所述第一特征图中的位置,以及预设的距离阈值,得到所述每个关联特征点对应的第一特征子图;以及

基于所述目标第二特征点在所述第二特征图中的位置、以及所述距离阈值,得到所述目标第二特征点对应的第二特征子图;

基于所述第一特征子图、以及所述第二特征子图,确定所述每个关联特征点与所述目标第二特征点之间的相似度。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述每个关联特征点在所述第一特征图中的位置,以及预设的距离阈值,得到所述每个关联特征点对应的第一特征子图,包括:

在所述第一特征图上,确定以所述每个关联特征点为圆心、以所述距离阈值为半径的第一圆形区域,基于所述第一特征图上位于该第一圆形区域内的第一特征点,得到所述第一特征子图;

所述基于所述目标第二特征点在所述第二特征图中的位置、以及所述距离阈值,得到所述目标第二特征点对应的第二特征子图,包括:

在所述第二特征图上,以所述目标第二特征点为圆心、以所述距离阈值为半径的第二圆形区域,基于所述第二特征图上位于该第二圆形区域内的第二特征点,得到所述第二特征子图。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于所述每个关联特征点在所述第一特征图中的位置,以及预设的距离阈值,得到所述每个关联特征点对应的第一特征子图,包括:

基于所述距离阈值,确定目标边长;

在所述第一特征图上,确定以所述每个关联特征点为中心、以确定的所述目标边长为边长的第一正方形区域,基于所述第一特征图上位于该第一正方形区域内的第一特征点,得到所述第一特征子图;

所述基于所述目标第二特征点在所述第二特征图中的位置、以及所述距离阈值,得到所述目标第二特征点对应的第二特征子图,包括:

在所述第二特征图上,确定以所述每个目标第二特征点为中心、以确定的所述目标边长为边长的第二正方形区域,基于所述第二特征图上位于该第二正方形区域内的第二特征点,得到所述第二特征子图。

5.根据权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述基于所述第二特征图、以及特征增强处理后的所述第一特征图,确定所述待检测图像对应的缺陷检测结果,包括:

基于所述第二特征图、以及所述增强处理后的所述第一特征图,生成所述第二特征图的注意力掩码图像;其中,所述注意力掩码图像中任一像素点的像素值,表征该第二特征图中位置与该任一像素点匹配的第二特征点存在缺陷的异常度值;

基于所述注意力掩码图像、以及所述增强处理后的所述第一特征图,确定所述待检测图像对应的缺陷检测结果。

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