[发明专利]在碳化硅基板上形成欧姆接触的方法及系统

权利要求书

1.一种在碳化硅基板上形成欧姆接触的方法，其特征在于：包括以下步骤，

S10、使用皮秒激光或飞秒激光聚焦在碳化硅基板的表面，通过控制激光的能量和光斑的尺寸形成微纳结构；

S20、使用打印的方法，在碳化硅表面的微纳结构区涂覆一层金属镍的纳米墨水，然后通过干燥除去溶剂；

S30、使用长脉宽紫外激光辐照在碳化硅表面的微纳结构区金属镍的纳米墨水涂覆，在惰性气体的保护下烧结纳米颗粒，形成一个连续的金属镍涂层，在金属镍和碳化硅的微纳结构界面区域形成镍的掺杂。

2.如权利要求1所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的方法，其特征在于：飞秒激光的脉宽为250-950fs；波长为1030-1064nm，515-532nm，343-355nm。

3.如权利要求2所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的方法，其特征在于：皮秒激光的脉宽为小于15ps；波长为1030-1064nm，515-532nm，343-355nm。

4.如权利要求3所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的方法，其特征在于：长脉宽紫外激光的脉宽大于10ns，波长为355nm或者266nm。

5.一种在碳化硅基板上形成欧姆接触的系统，其特征在于：包括，

超快激光模组、纳米墨水打印模组、长脉宽纳秒紫外激光模组及机械平台；

所述机械平台用于承载碳化硅基板；

所述超快激光模组设于机械平台上方，用于在碳化硅基板上形成微纳结构；

所述纳米墨水打印模组设于机械平台上方，用于在碳化硅表面的微纳结构区涂覆一层金属镍的纳米墨水；

所述长脉宽纳秒紫外激光模组设于机械平台上方，用于在涂覆一层金属镍的纳米墨水的碳化硅基板上形成连续的金属镍涂层。

6.如权利要求5所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的系统，其特征在于：所述超快激光模组用于产生飞秒激光或皮秒激光，飞秒激光的脉宽为250-950fs；波长为1030-1064nm，515-532nm，343-355nm；皮秒激光的脉宽为小于15ps；波长为1030-1064nm，515-532nm，343-355nm。

7.如权利要求6所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的系统，其特征在于：所述长脉宽纳秒紫外激光模组用于产生长脉宽紫外激光，长脉宽紫外激光的脉宽大于10ns，波长为355nm或者266nm。

8.如权利要求7所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的系统，其特征在于：所述超快激光模组包括依次排列的超快激光器、第一扩束器、第一反射镜、第一振镜及第一场镜。

9.如权利要求8所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的系统，其特征在于：所述长脉宽纳秒紫外激光模组包括依次排列的长脉宽纳秒紫外激光器、第二扩束器、第二反射镜、第二振镜及第二场镜。

10.如权利要求9所述的在碳化硅基板上形成欧姆接触的系统，其特征在于：所述纳米墨水打印模组包括墨水容纳罐、墨水打印喷嘴及墨水导入装置。